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题型:选择题-单选题 难度:0.65 引用次数:82 题号:22323878
中国芯片蚀刻技术国际领先。NF3进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体,在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观示意图如下,下列说法正确的是
A.参与反应的甲、乙微粒数之比为1:1
B.该反应中各元素化合价均未改变
C.该反应中共有两种化合物
D.反应前后分子、原子的种类和数目均不变

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2021-07-27更新 | 62次组卷
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解题方法
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A.氢气加氯气在点燃的条件下反应等于氯化氢
B.反应前后元素的种类、质量和化合价均没有改变
C.参加反应的氢分子、氯分子与生成的氯化氢分子的个数比为1∶1∶2
D.该反应既不属于化合反应也不属于分解反应
2024-03-08更新 | 45次组卷
共计 平均难度:一般