中国芯片蚀刻技术国际领先。NF3进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体,在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观示意图如下,下列说法正确的是
A.参与反应的甲、乙微粒数之比为1:1 |
B.该反应中各元素化合价均未改变 |
C.该反应中共有两种化合物 |
D.反应前后分子、原子的种类和数目均不变 |
更新时间:2024-04-04 08:43:46
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