在做几何光学实验时，有一组同学突发奇想摆出了如图所示的装置，A、B、C、D四块完全相同的半圆柱形玻璃砖如图对称放置玻璃的折射率为n。现在A玻璃砖底边中点S处有一点光源发出一细脉冲激光束，射向B玻璃砖的底边中点P，发现均无光线从底边射出，不计光在传播过程中的能量损失，则下列说法正确的是（ ）
A．半圆柱形玻璃砖的折射率一定等于 |
| B．半圆柱形玻璃砖的折射率可能等于 |
| C．如果该脉冲激光束为红光，当换成紫光时一定不能经历相同传播路径 |
| D．传播过程中，红脉冲光回到S点的时间与紫脉冲光回到S点的时间相同 |
23-24高二上·山东枣庄·期末 查看更多[2]
更新时间：2024-02-24 20:34:15
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【推荐1】如图所示，一束可见光射向半圆形玻璃砖的圆心0，经折射后分为两束单色光a和b.下列说法正确的是( )
| A．a光的频率大于b光的频率 |
| B．逐渐增大入射角，b光最先发生全反射 |
| C．在真空中，a光的波速大于b光的波速 |
| D．玻璃对a光的折射率小于对b光的折射率 |
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【推荐2】芯片制作关键在于光刻机的技术突破，光刻机利用光源发出的紫外线，将精细图投影在硅片上，再经技术处理制成芯片。目前的高端光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV（波长
）是深紫外线，EUV（波长
）是极深紫外线。浸没式光刻机在透镜组和硅片之间充有液体，已知光在真空中传播速度大于在介质中传播速度。关于光刻机物理量的比较下列说法正确的是（ ）
）是深紫外线，EUV（波长）是极深紫外线。浸没式光刻机在透镜组和硅片之间充有液体，已知光在真空中传播速度大于在介质中传播速度。关于光刻机物理量的比较下列说法正确的是（ ）
| A．真空中DUV光源光子能量比EUV光源光子能量大 |
| B．相同条件下，DUV光源比EUV光源更容易发生明显衍射现象 |
| C．DUV光源和EUV光源叠加时可以发生干涉现象 |
| D．浸没式光刻机光在液体中波长比在真空中长 |
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【推荐1】如图所示，两束相同的平行单色光a、b照射到一块矩形玻璃砖的上表面，发生折射后分别照射到PQ和NQ界面上，下列说法正确的是（ ）
| A．两束折射光都可以在界面上发生全反射 |
| B．两束折射光都不会在界面上发生全反射 |
| C．折射光d可能发生全反射 |
| D．折射光c可能发生全反射 |
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【推荐2】如图甲所示，将塑料瓶下侧开一个小孔，瓶中灌入清水，水就从小孔流出。用激光水平射向塑料瓶小孔，发现激光会沿着水流传播，像是被束缚在水流中一样，产生该现象的原理与光导纤维的原理相同。紧靠出水口的一小段水柱的竖直截面如图乙所示，
和
可视为以O为圆心的同心圆弧，圆弧的半径
长为
，且b在上。光线垂直
边射入，若水的折射率为
，考虑在截面
内的光线，要求光线第一次射到边时均不能从该水柱射出，边的长度最大为（ ）
和可视为以O为圆心的同心圆弧，圆弧的半径长为，且b在上。光线垂直边射入，若水的折射率为，考虑在截面内的光线，要求光线第一次射到边时均不能从该水柱射出，边的长度最大为（ ） A． | B． | C． | D． |
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