高纯度晶体硅是典型的无机非金属材料，又称“半导体”材料。它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。可以按下列两种方法制备：
下列说法错误的是
下列说法错误的是
| A．反应①中氧化剂和还原剂的物质的量之比为1∶2 |
B．流程中HCl、 和 均可以循环利用 |
C．③中发生反应的化学方程式为 |
| D．反应①、②、③、④、⑤均为氧化还原反应 |
更新时间：2024-04-07 21:53:15
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单选题
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适中
(0.65)
名校
解题方法
【推荐1】接触法制硫酸、氨氧化法制硝酸、工业制备高纯硅分别经过下列主要变化：
下列说法符合事实的是
下列说法符合事实的是
| A．第8、9两步互为可逆反应 |
| B．第3、6步都是直接用水吸收 |
C．第7步 过量，会发生： |
D．第9步反应发生前，首先要对第8步反应产物进行蒸馏，得到纯净的 |
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单选题
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适中
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名校
解题方法
【推荐2】实验室用还原
(沸点：31.85℃)制备高纯硅的装置如图所示(夹持装置和尾气处理装置略去)，下列说法正确的是
还原(沸点：31.85℃)制备高纯硅的装置如图所示(夹持装置和尾气处理装置略去)，下列说法正确的是| A．装置Ⅱ、Ⅲ中依次盛装的是浓硫酸、冰水 |
| B．实验时，应先加热管式炉，再打开活塞K |
| C．为鉴定制得硅中是否含有微量铁单质，需要用到的试剂为盐酸、双氧水、KSCN溶液 |
D．该实验中制备氢气的装置也可用于硫酸与 反应制备 |
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均能一步实现
