化合物M是一种光致抗蚀剂，可用于印刷电路和集成电路工艺中，其合成路线如下：

已知：I.
II.羟基直接连接在碳碳双键的碳原子上的有机物是不稳定的。
回答下列问题：
(1)下列关于M的说法正确的是______（填字母）。
a.M属于高分子化合物
b.M在碱性溶液中能稳定存在
c.M能使酸性高锰酸钾溶液褪色
d.1molM与足量氢气反应时，最多消耗4molH₂
(2)C中官能团的名称为______，由E生成F的反应类型为_________。
(3)F的化学名称为_______，由F生成G的化学方程式为____________。
(4)二取代芳香族化合物W（只含苯环，不含其他的环，且不含“C=C=C”结构）是D的同分异构体，W能与三氯化铁溶液发生显色反应，则W的结构共有____种（不含立体异构），其中核磁共振氢谱为五组峰的结构简式为____________。
(5)参照上述合成路线，设计一条以HC≡CH为原料（其他无机试剂任选）制备G的合成路线：________________________。