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选择题-单选题 | 较易 (0.85)
解题方法
【推荐1】中国芯片蚀刻技术国际领先。NF3进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体,在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观示意图如下,下列说法正确的是
A.上述两种反应物均由分子构成B.反应前后各元素的化合价均不变
C.反应生成的丙和丁微粒个数之比为3:2D.空气中物质丁的质量分数为78%
2023-05-01更新 | 83次组卷
选择题-单选题 | 较易 (0.85)
【推荐2】连二亚硫酸钠(化学式为Na2S2O4)可用作印染还原剂,其中硫元素的化合价为
A.-2B.+3C.+4D.+6
2021-06-18更新 | 26次组卷
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【推荐3】两元素组成的氧化物的化学式正确的是(   
A.Cu2OB.CuOC.CuO2D.OCu
2019-08-06更新 | 61次组卷
共计 平均难度:一般