1 . 高聚物H可用于光刻工艺中，作抗腐蚀涂层。下列是高聚物H的一种合成路线：

已知：①RCHO＋R₁CH₂COOH+H₂O
②由B生成C的反应属于加聚反应
③D属于高分子化合物；
请回答下列问题：
(1)A的化学名称为___________。
(2)B中含氧官能团的名称是___________。
(3)由A生成B和Y生成E的反应类型分别为___________。
(4)由F生成G的化学方程式为___________。
(5)H的结构简式为___________。
(6)只有一种官能团的芳香化合物W是G的同分异构体，W能发生银镜反应，其中核磁共振氢谱为四组峰，峰面积比为3：2：2：1的结构简式为___________。

2 . 有机化合物2－苯基丙烯的结构简式如图(   )，下列关于该有机物的说法不正确的是

A．能使稀高锰酸钾溶液褪色	B．分子中所有碳原子可能共平面
C．不能发生加聚反应	D．不易溶于水