目前的高端光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV（波长193nm）是深紫外线，EUV（波长13.5nm）是极深紫外线。沉浸式光刻机在透镜组和硅片之间充有液体，已知光在真空中传播速度大于在介质中传播速度。关于光刻机物理量的比较下列说法正确的是（ ）
| A．真空中DUV光源光子频率比EUV光源光子频率大 |
| B．DUV光源光子能量比EUV光源光子能量大 |
| C．沉浸式光刻机光在液体中波长比在真空中短 |
| D．沉浸式光刻机光在液体中频率比在真空大 |
更新时间：2023-10-06 18:25:31
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| A．铯137释放的β射线是由氦核构成 |
| B．铯137释放的γ光子能量大于可见光光子能量 |
| C．1g铯137经过60年后，铯137含量大约还有0.75g |
| D．铯137和铯134具有相同的中子数 |
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| B．体温越高，测温枪接收到的最强辐射频率越高 |
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| B．用同一双缝干涉装置进行实验a光的干涉条纹间距比b光的大 |
| C．a光光子能量小于b光光子能量 |
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【推荐2】可见光波长的大致范围是400~760nm，则该范围的电磁辐射能量子
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最大值是多少（已知普朗克常量）（ ）| A．4.97×10-21J | B．2.62×10-19J | C．3.11eV | D．1.63eV |
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