解题方法
1 . 化合物M是一种光致抗蚀剂,可用于印刷电路和集成电路工艺中,其合成路线如下:
已知:I.
II.羟基直接连接在碳碳双键的碳原子上的有机物是不稳定的。
回答下列问题:
(1)下列关于M的说法正确的是______ (填字母)。
a.M属于高分子化合物
b.M在碱性溶液中能稳定存在
c.M能使酸性高锰酸钾溶液褪色
d.1molM与足量氢气反应时,最多消耗4molH2
(2)C中官能团的名称为______ ,由E生成F的反应类型为_________ 。
(3)F的化学名称为_______ ,由F生成G的化学方程式为____________ 。
(4)二取代芳香族化合物W(只含苯环,不含其他的环,且不含“C=C=C”结构)是D的同分异构体,W能与三氯化铁溶液发生显色反应,则W的结构共有____ 种(不含立体异构),其中核磁共振氢谱为五组峰的结构简式为____________ 。
(5)参照上述合成路线,设计一条以HC≡CH为原料(其他无机试剂任选)制备G的合成路线:________________________ 。
已知:I.
II.羟基直接连接在碳碳双键的碳原子上的有机物是不稳定的。
回答下列问题:
(1)下列关于M的说法正确的是
a.M属于高分子化合物
b.M在碱性溶液中能稳定存在
c.M能使酸性高锰酸钾溶液褪色
d.1molM与足量氢气反应时,最多消耗4molH2
(2)C中官能团的名称为
(3)F的化学名称为
(4)二取代芳香族化合物W(只含苯环,不含其他的环,且不含“C=C=C”结构)是D的同分异构体,W能与三氯化铁溶液发生显色反应,则W的结构共有
(5)参照上述合成路线,设计一条以HC≡CH为原料(其他无机试剂任选)制备G的合成路线:
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2017-03-14更新
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597次组卷
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3卷引用:2017届河南省豫南九校(中原名校)高三下学期质量考评八理综化学试卷