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解析
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1 . 经过长达一年的科研攻关,我国半导体技术再次取得突破性进展,完成了半导体激光隐形晶圆切割设备的技术迭代,分辨率从100nm提升至50nm,达到目前行业内的最高精度,大幅提升了芯片生产的质量、效率、效益。这充分说明(     
①半导体技术的突破是一个自我否定、自我超越的过程
②辩证的否定是分辨率由100nm提升至50nm的基础
③创新是引领半导体技术更新迭代的第一动力
④50nm分辨率是对100nm分辨率合理因素的“扬弃”
A.①②B.①③C.②④D.③④
共计 平均难度:一般