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解题方法
1 . 光刻胶是芯片制造的关键材料,以下是一种光刻胶的酸解过程,下列说法不正确的是
A.X的单体含碳碳双键和酯基 | B.Y在水中的溶解度大于X |
C.Z中所有原子共平面 | D.该酸解过程含消去反应 |
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