消去反应练习题及答案-2024年高中化学单元测试-组卷网

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解析

| 共计 1 道试题

23-24高三下·四川成都·开学考试

单选题 | 适中(0.65) |

名校

解题方法

单体与高聚物互推

1 . 光刻胶是芯片制造的关键材料，以下是一种光刻胶的酸解过程，下列说法不正确的是

A．X的单体含碳碳双键和酯基	B．Y在水中的溶解度大于X
C．Z中所有原子共平面	D．该酸解过程含消去反应

2024-02-25更新 | 191次组卷 | 2卷引用：第五章合成高分子(A卷)