在芯片制造过程中,离子注入是其中一道重要的工序。如图所示的是离子注入原理的示意图,离子经电场加速后沿水平方向进入速度选择器,速度为的离子射出后进入磁分析器Ⅰ,只有特定比荷的离子才能进入偏转系统Ⅱ,再注入水平放置的硅片上。磁分析器Ⅰ中的匀强磁场的磁感应强度大小为B,方向垂直纸面向外,磁分析器Ⅰ的截面是矩形,矩形的长为
,宽为
,在其宽和长的中心位置C和D处各有一个小孔;半径为L的圆形偏转系统Ⅱ内存在垂直于纸面向外、磁感应强度大小可调的匀强磁场,D、M、N在一条竖直直线上,
为圆形偏转系统的直径,最低点M到硅片的距离
,不计离子重力。
(1)求能通过D点进入磁偏转系统的离子的比荷;
(2)若偏转系统磁感应强度大小的取值范周为
,求硅片上离子往入的宽度。
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(1)求能通过D点进入磁偏转系统的离子的比荷;
(2)若偏转系统磁感应强度大小的取值范周为
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更新时间:2023-05-21 16:51:50
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【知识点】 基于速度选择器的质谱仪
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解答题
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较难
(0.4)
名校
【推荐1】同位素分析仪如图(a)所示,感光胶片在x轴垂直纸面放置,取O为坐标原点,y轴垂直纸面向内。离子从离子源飘出,经加速电压U加速后沿直线进入磁感应强度为B的匀强磁场,经磁场偏转半个周期后离子打在放在OC的胶片上,使胶片曝光。两种离子的电荷量均为q,质量分别为m和
。离子均匀进入加速电场的速度不计,加速电压为U。不考虑相对论效应及离子间的相互作用,不考虑电场变化产生的磁场。
(1)两种离子在胶片上感光位置的距离;
(2)若磁场的磁感应强度在
范围内变化,能使两种离子在胶片上的痕迹能分开,求
的最大值;
(3)若在磁场区域加一个向内的匀强电场E,磁感应强度仍为B,离子源包含各种比荷的离子,这些离子在胶片上痕迹的曲线方程;
(4)对质量m、电量q的离子,加上图(b)和图(c)的电压和电场,离子在电场及磁场中运动的时间远小于电压的变化周期,求胶片上感光区域的面积,并判断感光区域内离子是否均匀打在上面。
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(1)两种离子在胶片上感光位置的距离;
(2)若磁场的磁感应强度在
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(3)若在磁场区域加一个向内的匀强电场E,磁感应强度仍为B,离子源包含各种比荷的离子,这些离子在胶片上痕迹的曲线方程;
(4)对质量m、电量q的离子,加上图(b)和图(c)的电压和电场,离子在电场及磁场中运动的时间远小于电压的变化周期,求胶片上感光区域的面积,并判断感光区域内离子是否均匀打在上面。
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较难
(0.4)
【推荐2】如图所示为一同位素原子核分离器的原理图。有两种同位素,电荷量为q,质量分别为
、
,其中
。从同一位置A点由静止出发通过同一加速电场加速后进入速度选择器,速度选择器中的电场强度为E,方向向右;磁感应强度大小为B,方向垂直纸面向外。在边界线ab下方有方向垂直纸面向外、大小为
的匀强磁场。忽略粒子间的相互作用力及所受重力。若质量为
的原子核恰好沿直线(图中虚线)从O点射入磁场。求:
(1)加速电场的电压大小,
(2)质量为
的原子核进入速度选择器时的速度大小;
(3)质量为
的原子核离开速度选择器进入ab边界下方的磁场时,离
点的距离为d,若
,
,则质量为
的原子核第一次打到ab边界距
点的距离。
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(1)加速电场的电压大小,
(2)质量为
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(3)质量为
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较难
(0.4)
【推荐3】在粒子物理学的研究中,经常用电场和磁场来控制或者改变粒子的运动.一粒子源产生离子束,已知离子质量为m,电荷量为+e 。不计离子重力以及离子间的相互作用力。
![](https://img.xkw.com/dksih/QBM/2016/1/28/1575815657660416/1575815658119168/STEM/5a7503c6-992c-41c5-9cef-ca503a5c2668.png?resizew=550)
(1)如图1所示为一速度选择器,两平行金属板水平放置,电场强度E与磁感应强度B相互垂直.让粒子源射出的离子沿平行于极板方向进入速度选择器,求能沿图中虚线路径通过速度选择器的离子的速度大小v。
(2)如图2所示为竖直放置的两平行金属板A、B,两板中间均开有小孔,两板之间的电压UAB随时间的变化规律如图3所示.假设从速度选择器出来的离子动能为Ek=100eV,让这些离子沿垂直极板方向进入两板之间.两极板距离很近,离子通过两板间的时间可以忽略不计.设每秒从速度选择器射出的离子数为N0 = 5×1015个,已知e =1.6×10-19C.从B板小孔飞出的离子束可等效为一电流,求从t = 0到t = 0.4s时间内,从B板小孔飞出的离子产生的平均电流I。
(3)接(1),若在图1中速度选择器的上极板中间开一小孔,如图4所示.将粒子源产生的离子束中速度为0的离子,从上极板小孔处释放,离子恰好能到达下极板。求离子到达下极板时的速度大小v,以及两极板间的距离d。
![](https://img.xkw.com/dksih/QBM/2016/1/28/1575815657660416/1575815658119168/STEM/5a7503c6-992c-41c5-9cef-ca503a5c2668.png?resizew=550)
(1)如图1所示为一速度选择器,两平行金属板水平放置,电场强度E与磁感应强度B相互垂直.让粒子源射出的离子沿平行于极板方向进入速度选择器,求能沿图中虚线路径通过速度选择器的离子的速度大小v。
(2)如图2所示为竖直放置的两平行金属板A、B,两板中间均开有小孔,两板之间的电压UAB随时间的变化规律如图3所示.假设从速度选择器出来的离子动能为Ek=100eV,让这些离子沿垂直极板方向进入两板之间.两极板距离很近,离子通过两板间的时间可以忽略不计.设每秒从速度选择器射出的离子数为N0 = 5×1015个,已知e =1.6×10-19C.从B板小孔飞出的离子束可等效为一电流,求从t = 0到t = 0.4s时间内,从B板小孔飞出的离子产生的平均电流I。
(3)接(1),若在图1中速度选择器的上极板中间开一小孔,如图4所示.将粒子源产生的离子束中速度为0的离子,从上极板小孔处释放,离子恰好能到达下极板。求离子到达下极板时的速度大小v,以及两极板间的距离d。
![](https://img.xkw.com/dksih/QBM/2016/1/28/1575815657660416/1575815658119168/STEM/ba786e14-835d-4121-899b-6d1e1132a170.png?resizew=145)
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