下列除杂试剂选用正确且除杂过程涉及氧化还原的是
括号内为杂质 | 除杂试剂 | |
A |
| 铜粉 |
B |
|
|
C |
| 饱和 |
D |
| 酸性高锰酸钾溶液 |
溶液
溶液
溶液
| A．A | B．B | C．C | D．D |
更新时间：2024-04-09 10:13:09
|
相似题推荐
单选题
|
适中
(0.65)
【推荐1】为除去某物质中所含的杂质，所选用的除杂试剂或操作方法正确的是（ ）
| 序号 | 物质 | 杂质 | 除杂试剂或操作方法 |
| ① | NaCl | Na2CO3 | 溶解，加入过量盐酸，蒸发 |
| ② | FeSO4溶液 | CuSO4 | 加入过量铁粉并过滤 |
| ③ | H2 | CO2 | 依次通过盛有NaOH溶液和浓硫酸的洗气瓶 |
| ④ | NaNO3 | CaCO3 | 加稀盐酸、过滤、蒸发结晶 |
| A．①②③ | B．②③④ | C．①②④ | D．①②③④ |
您最近一年使用：0次
单选题
|
适中
(0.65)
解题方法
【推荐2】下列物质提纯的方法正确的是
| A | 除去NO2中的NO | 与足量O2混合 |
| B | 除去CO2中的SO2 | 通过足量的澄清石灰水 |
| C | 除去KCl溶液中的K2CO3 | 加入适量BaCl2溶液后过滤 |
| D | 除去乙酸中混有的乙醇 | 加入生石灰后蒸馏 |
| A．A | B．B | C．C | D．D |
您最近一年使用：0次
单选题
|
适中
(0.65)
名校
解题方法
【推荐1】下列表示对应化学反应的离子方程式正确的是
A．酸性氯化亚铁溶液中加入双氧水： |
B．向碳酸氢铵溶液中加入过量的 溶液： |
C．用过量氨水吸收工业尾气中的 ： |
D．氢氧化亚铁溶于过量稀硝酸： |
您最近一年使用：0次
单选题
|
适中
(0.65)
【推荐2】下列实验装置能达到实验目的的是
| A．图①装置验证石蜡油分解的产物是乙烯 |
| B．图②装置可用于检验SO2的漂白性 |
| C．图③装置可通过蒸干FeCl3饱和溶液制备FeCl3晶体 |
| D．图④装置可观察铁的吸氧腐蚀 |
您最近一年使用：0次
、氯水、过氧化钠、臭氧、活性炭都有漂白性，其原理相同
和NaOH的混合溶液中通入少量的
气体，有白色沉淀生成
通入
沉淀
单选题
|
适中
(0.65)
名校
解题方法
【推荐1】下列指定反应的离子方程式正确的是、
A．用醋酸除去水垢： |
B．利用腐蚀法制作印刷线路板： |
C．用稀硝酸溶解FeS固体： |
D．Na2SO3溶液使酸性KMnO4溶液褪色： |
您最近一年使用：0次
单选题
|
适中
(0.65)
【推荐2】下列文字表述与反应方程式对应且正确的是
A．硫化钠的水解反应：S2－＋H3O＋ HS－＋H2O |
| B．用醋酸除去水垢：CaCO3+ 2H+==Ca2++ H2O + CO2↑ |
| C．利用腐蚀法制作印刷线路板：Fe3++ Cu ="=" Fe2++ Cu2+ |
| D．NaNO2溶液中加入酸性KMnO4溶液：2MnO4－＋5NO2－＋6H＋= 2Mn2＋＋5NO3－＋3H2O |
您最近一年使用：0次
单选题
|
适中
(0.65)
解题方法
【推荐3】电子工业常用FeCl3溶液腐蚀覆铜板上的铜箔，制造印刷电路板。从腐蚀废液(主要含FeCl3、FeCl2、CuCl2)中回收铜，并重新获得FeCl3溶液，处理流程如下：
下列说法不正确的是
下列说法不正确的是
| A．FeCl3溶液腐蚀铜箔的原理为2Fe3++Cu=Cu2++2Fe2+ |
| B．反应1和反应2都发生了氧化还原反应 |
| C．实验室中进行操作1时，用到的主要玻璃仪器有漏斗、烧杯和玻璃棒 |
| D．滤渣a的主要成分是Cu和Fe，物质X可以选用酸性KMnO4溶液 |
您最近一年使用：0次
单选题
|
适中
(0.65)
解题方法
【推荐1】利用下列装置进行实验，能达到实验目的的是
| A．用①滴加饱和FeCl3溶液制备Fe(OH)3胶体 | B．用②蒸干AlCl3溶液，可以获得无水氯化铝 |
| C．用③除去乙烷中的杂质乙烯，获得纯净乙烷气体 | D．用④加入乙醇和浓硫酸，可以用于制备乙烯 |
您最近一年使用：0次
单选题
|
适中
(0.65)
解题方法
【推荐2】从某含有FeCl2、FeCl3、CuCl2的工业废液中回收铜并制备氯化铁晶体(
)的流程如下。下列说法错误的是
)的流程如下。下列说法错误的是| A．试剂a是稀盐酸 |
| B．操作Ⅰ、操作Ⅱ均需用到漏斗，操作Ⅲ需用到蒸发皿 |
| C．试剂b为氯气，在该流程中作氧化剂 |
| D．用酸性KMnO4可检验W中是否含有 Fe2+ |
您最近一年使用：0次
溶液
溶液(
)
