【推荐1】多晶硅是广泛用于制造半导体收音机、录音机、电冰箱、彩电、录像机、电子计算机等的基础材料。以下是由石英砂制备多晶硅的简易过程。
   
回答下列问题：
(1)反应①中氧化剂与还原剂的物质的量之比为___________。反应②中生成SiHCl₃的化学方程式为___________。
(2)反应③氢化过程中所需的高纯度H₂可通过电解精制的饱和食盐水制得，电解过程中同时生成一种黄绿色的气体和一种易溶、易电离的碱，电解反应的离子方程式是___________。粗盐水精制过程中，为有效除去Ca²⁺、Mg²⁺、 等杂质，要按___________顺序(填标号)加入下列溶液，过滤后再向滤液中加___________调节pH。
a．NaOH             b．Na₂CO₃ c．BaCl₂
(3)反应④中H₂还原SiHCl₃过程中若混入O₂，除可能引起爆炸外，还可能引起___________。由粗硅制备多晶硅的过程中，循环使用的物质除SiCl₄、SiHCl₃和Si外，还有___________(填分子式)。

【推荐2】单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450～500℃)，四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下：
a．四氯化硅遇水极易水解；
b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
c．有关物质的物理常数见下表：

物质	SiCl4	BCl3	AlCl3	FeCl3	PCl5
沸点/℃	57.7	12.8	—	315	—
熔点/℃	－70.0	－107.2	—	—	—
升华温度/℃	—	—	180	300	162

请回答下列问题：
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式______________________。
(2)装置A中g管的作用是________；装置C中的试剂是________；装置E中的h瓶需要冷却的理由是__________________________________；
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是________（填写元素符号）。

【推荐2】CuCl在染色和催化领域应用广泛。实验室利用下图装置(加热和夹持装置略去)将二氧化硫通入新制氢氧化铜悬浊液中制备CuCl。

已知：I.CuCl为白色固体，难溶于水和乙醇，能溶于浓盐酸；
Ⅱ.Cu₂O+2H⁺=Cu+Cu²⁺+H₂O，CuCl+HCl=HCuCl₂，HCuCl₂ CuCl↓+HCl。
实验步骤如下：向C中加入15mL0.5mol·L^-1的CuCl₂溶液中，加入0.5mol·L^-1的NaOH溶液30mL；打开A中分液漏斗的活塞产生SO₂气体，一段时间后C中产生白色固体，将C中混合物过滤、依次用水和乙醇洗涤，所得固体质量为0.597g。
(1)试剂a为___________，仪器b名称为___________。
(2)B装置的作用是___________。
(3)将二氧化硫通入C中新制氢氧化铜悬浊液，产生白色固体的离子方程式为___________。
(4)用乙醇洗涤CuCl的优点为___________，判断CuCl洗涤干净的实验方案是___________。
(5)计算该实验中CuCl的产率___________。
(6)若所得CuCl固体中混有少量Cu₂O，请设计除去Cu₂O的实验方案：___________。

【推荐3】以辉铜矿(主要成分为Cu₂S，含少量SiO₂)为原料制备硝酸铜的流程如图示：

(1)“浸取”后过滤得到的矿渣成分是__________(填化学式)。
(2)“浸取”反应中，每生成1 mol CuCl₂，反应中转移电子的数目约为__________。
(3)向滤液M中加入(或通入)__________(填字母)，可使流程中__________(化学式)循环利用。
a.铁        b.氯气        c.高锰酸钾        d.氯化氢
(4)“保温除铁”过程中，加入氧化铜的作用是_____________。
(5)某探究性小组的研究成果如图所示，可以用废铜屑和黄铜矿(主要成分为CuFeS₂)来富集Cu₂S，当反应中转移0.2 mol电子时，生成Cu₂S__________mol。