组卷网 > 高中化学综合库 > 常见无机物及其应用 > 碳族元素及其化合物 > 硅单质 > 硅的制备
题型:填空题 难度:0.65 引用次数:186 题号:14318412
回答下列问题:
(1)H2+Cl2=2HCl的反应过程如下图所示:

根据图中信息,该反应_______(填“放出”或“吸收”)_______ kJ热量。
(2)硅是太阳能电池的重要材料。工业冶炼纯硅的原理是:
粗硅冶炼:(a)SiO2+2CSi+2CO↑。
精炼硅:(b)Si+3HClSiHCl3+H2
(c)SiHCl3+H2Si+3HCl。
化学反应与能量变化如图所示,回答下列问题:

①(a)是_______反应,(b)是_______反应,(c)是_______反应(填“吸热”或“放热”)。
②反应(b)破坏反应物中的化学键所吸收的能量_______(填“大于”或“小于”)形成生成物中化学键所放出的能量。

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【推荐1】硅是无机非金属材料的主角,硅的氧化物和硅酸盐占地壳的90%以上。
(1)下列不属于硅酸盐的是_______
A.碳化硅陶瓷          B.黏土            C.玻璃            D. 石英
(2)科学家用金属钠、四氯化碳和四氯化硅制得了碳化硅纳米棒,反应的化学方程式为:8Na+CCl4+SiCl4=SiC+8NaCl,其中氧化剂为______
(3)用Na2SiO3水溶液浸泡过的棉花不易燃烧,说明Na2SiO3可以用作______;Na2SiO3可通过SiO2与纯碱混合高温下反应制得,反应时可以采用的坩埚为______(填字母)。
A.普通玻璃坩埚        B.石英玻璃坩埚     C.氧化铝坩埚 D. 铁坩埚   
(4)制备纯硅的生产过程为如图:

假设每一轮次制备1mol纯硅,生产过程中硅元素没有损失,反应I中HCl的利用率为90%,反应Ⅱ中H2的利用率为93.75%。则在第二轮次的生产中,补充投入HCl和H2的物质的量之比为______
2020-11-10更新 | 269次组卷
填空题 | 适中 (0.65)
【推荐2】硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
石英砂粗硅SiHCl3(粗)SiHCl3(纯)高纯硅
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式:_____________。 
②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出这一过程的化学反应方程式:__;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是__________。 
(2)下列有关硅材料的说法正确的是_____(填字母)。 
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产砂纸、砂轮的磨料
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维
D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
2017-09-20更新 | 406次组卷
【推荐3】请按要求回答下列问题:
(1)下列纯净物中:a.NaOH     b.Ar     c.MgCl2     d.HCl     e.NH3     f.KNO3
①不含化学键的物质是_______(填序号,下同)。
②既含有离子键又含有共价键的物质是______
③只含有离子键的物质是________
(2)下列变化中,不需要破坏化学键的是______
A.氯化氢溶于水            B.加热氯酸钾使其分解
C.碘升华                      D.氯化钠溶于水
(3)实验室盛放碱液的试剂瓶不能用玻璃塞,以氢氧化钠为例,用离子方程式表示其原因:_________,任写一个制造普通玻璃的主要反应的化学方程___________________
(4)硅是良好的半导体材料,写出工业上生产粗硅的化学方程式:__________________________
2019-05-07更新 | 111次组卷
共计 平均难度:一般