组卷网 > 高中化学综合库 > 认识化学科学 > 离子反应 > 离子反应及发生条件 > 离子反应的发生及书写 > 离子方程式的书写
题型:填空题 难度:0.65 引用次数:58 题号:15287893
目前,能较稳定存在的氯的氧化物有等。有关数据见表:请回答下列问题:
化学式
沸点/℃3.811.082.0

(1)常温、常压下,三种氧化物中属于气体的是_______
(2)属于酸性氧化物,它与水反应的离子方程式为_______
(3)是一种常用的消毒剂,我国从2000年起逐步用代替氯气对饮用水进行消毒。在消毒水时,还可将水中的等转化成等难溶物除去,说明具有_______性,试写出用(反应后的产物为)氧化除去生成的离子方程式:_______
(4)工业上可以用下列反应制备,请用单线桥法表示出该反应电子转移的方向和数目_______
(5)工业上也可以用制备的反应原理为:(浓)
①浓盐酸在反应中显示出来的性质是_______(填序号)。
A.还原性                                     B.氧化性                                     C.酸性
②若上述反应中产生,则转移的电子数为_______

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【推荐1】判断下列离子方程式是否正确(填“对”或“错”),并将错误的离子方程式修改正确。
(1)铁粉溶于稀硫酸:2Fe2++6H+=2Fe3++H2______________________________
(2)用饱和氯化铁溶液制备氢氧化铁胶体:Fe3++3OH-=Fe(OH)3__________________________
(3)氧化钙溶于盐酸反应:CaO+2H+=Ca2++H2O_____________________________
(4)BaCO3与稀硫酸反应:Ba2++=BaSO4____________________________
(5)氯化镁溶液与氢氧化钠溶液反应:Mg2++2OH-= Mg(OH)2___________________________
(6)硝酸钙溶液和碳酸钾溶液混合:Ca2++=CaCO3__________________________
2020-11-30更新 | 245次组卷
【推荐2】高纯砷(As)常用于制造砷化镓、砷化锗等半导体材料。工业上用含砷废料(主要成分为,含少量)为原料制取高纯砷的工艺流程(硫化—还原法)如下图所示:

已知:砷酸(H3AsO4)在酸性条件下有强氧化性,能被、氢碘酸等还原为亚砷酸(H3AsO3),H3AsO3在加热蒸发过程中会失水生成的值为
回答下列问题:
(1)半导体材料元素的化合价为___,“氧化(加压)”时发生反应的化学方程式为_______
(2)“还原”过程发生反应的离子方程式为___
2021-07-24更新 | 214次组卷
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【推荐3】硼单质在高温时是良好的导体,也是用途广泛的化工原料。镁单质可用于制造轻金属合金、球墨铸铁等。硼镁矿的主要成分为Mg2B2O5·H2O,可以制取单质硼和镁。制取工艺流程如图所示,已知硼砂的化学式为Na2B4O7·10H2O,硼镁泥是硼镁矿制硼砂过程中产生的废渣,其主要成分是MgCO3,还含有CaO、Al2O3、Fe2O3、FeO、MnO、SiO2等杂质。按要求回答问题:
   
(1)化合物Mg2B2O5·H2O中B的化合价为_____
(2)将硼砂溶于热水后,常用稀硫酸调pH至2~3制取H3BO3,该反应的离子方程式为____
(3)写出加NaClO的过程中发生反应的离子方程式:________________
(4)将硼镁泥中加入的硫酸改为盐酸是否可行?___。(填“是”或“否”),理由是____
2019-06-20更新 | 104次组卷
共计 平均难度:一般