【推荐2】用于灭活新冠病毒的二氧化氯稳定性较差(纯易分解爆炸)，故用和NaOH混合溶液将其吸收转化为保存。现利用如下装置(夹持装置略去)及试剂制备。

已知：①熔点―59℃、沸点11℃，在碱性环境中发生反应：；
②温度高于60℃时，分解成和NaCl。
回答下列问题：
(1)配制75%浓硫酸，下列仪器中不需要的是_______(填仪器名称)。

(2)A为的发生装置，生成的离子方程式为_______。
(3)实验过程中持续通入的作用是_______。
(4)装置B中和NaOH需按照一定比例混合配成溶液与反应制取，作_______(填“氧化剂”或“还原剂”)；此装置需要采用冰水浴，可能的原因为_______(任写一点)。
(5)装置C烧杯中的试剂是_______。
(6)某同学认为实验过程中会产生，推测产品中可能含杂质，请设计简单实验证明_______。
(7)某研究性学习小组用制取的作漂白剂。0.5mol的氧化能力(得电子数)相当于_______ g 的氧化能力。

【推荐3】硫代硫酸钠又名大苏打，为氰化物的解毒剂。工业上常利用含硫废水生产Na₂S₂O₃·5H₂O，实验室可用如图所示装置(略去部分夹持仪器)模拟生产过程。

烧瓶C中发生反应如下：
①Na₂S(a)+H₂O(l)+SO₂(g)=Na₂SO₃(aq)+H₂S(aq) (I)
②2H₂S(aq)+SO₂(g)= 3S(s)+2H₂O(l)快     (II)
③S(s)+Na₂SO₃(aq)=Na₂S₂O₃(aq)慢       (III)   
回答下列问题：
(1)装置A中发生反应的离子方程式为_______。
(2)装置D的作用是_______。
(3)结合反应原理，装置C中反应已经完成的实验现象是_______。
(4)装置B有多重作用，其一可以用于整套装置气密性检查，请写出操作及现象：_______；其二可以用于观察SO₂的生成速率，其中的液体最好选择_______。
(5)为提高产品纯度，应使烧瓶C中Na₂S和Na₂SO₃恰好完全反应，则烧瓶C中Na₂S和Na₂SO₃物质的量之比为_______。

【推荐2】如图，反应①为常温下的反应，A、C、D中均含有氯元素，且A中氯元素的化合价介于C和D中氯元素的化合价之间，E在常温下为无色无味的液体，F是淡黄色固体，G为常见的无色气体。请据图回答下列问题：

(1)G、A的化学式分别为_______、_______。
(2)写出反应①的化学方程式：______。
(3)写出反应②的化学方程式：_______。
(4)已知A是一种重要的化工原料，在工农业生产和生活中有着重要的应用。请根据所学知识回答下列问题。
①将A通入紫色石蕊溶液中，观察到的现象是_______。请写出A与水反应的化学方程式：_______。
②A可以制漂白粉，漂白粉在空气时间长了会失效，失效的原因是________(用化学方程式表示)。

【推荐3】已知A是一种装饰品的主要成分，是地壳中含量最高的两种元素形成的化合物。根据下图转化关系，回答下列问题。

   

(1)A的用途：________(任写一种)，B是________，D是________。
(2)写出下列反应的化学方程式：①______________。
(3)写出下列反应的离子方程式：②____________，③_______，⑤____________。

【推荐1】多晶硅是制作光伏电池的关键材料，以下是工业上由石英砂制备多晶硅的简易流程。

(1)请写出由石英砂制备粗硅的主要方程式___。
(2)经研究发现SiO₂生成Si的反应机理不是一步完成的，反应机理如下：
反应1：SiO₂(s)+C(s)SiO(g)+CO(g)
反应2：SiO(g)+2C(s)SiC(s)+CO(g)
反应3：2SiO₂(s)+SiC(s)3SiO(g)+CO(g)
反应4：SiO(g)+SiC(s)2Si(l)+CO(g)
反应5：SiO₂(s)+Si(l)2SiO(g)
如图曲线表示5个反应的平衡pSiO/pCO与温度变化关系图。

结合图象判断反应2的△H___0(填“>”、“<”或“=”)，请说明理由___。
(3)工业上以硅粉和氯化氢气体为原料生产SiHCl₃时伴随发生的反应有：
Si(s)+4HCl(g)=SiCl₄(g)+2H₂(g)∆H=-241kJ•mol^-1
SiHCl₃(g)+HCl(g)=SiCl₄(g)+H₂(g)∆H=-31kJ•mol^-1
请书写以硅粉和氯化氢气体生产SiHCl₃的热化学反应方程式___。
(4)将SiCl₄氢化为SiHCl₃有三种方法，对应的反应依次为：
①SiCl₄(g)+H₂(g)SiHCl₃(g)+HCl(g)∆H₁>0
②3SiCl₄(g)+2H₂(g)+Si(s)4SiHCl₃(g)∆H₂<0
③2SiCl₄(g)+H₂(g)+Si(s)+HCl(g)3SiHCl₃(g)∆H₃
已知体系自由能变∆G=∆H-T∆S，∆G<0时反应自发进行。三个氢化反应的∆G与温度的关系如图所示，可知：反应①能自发进行的最低温度是___；相同温度下，反应②比反应①的∆G小，主要原因是___。

【推荐2】氮化硅高温陶瓷材料是现代重要的结构陶瓷，因其有硬度大、熔点高、化学性质稳定等特点而受到广泛关注。工业上普遍用下列流程进行生产：

（1）SiO₂和C反应除了得到粗硅外，还有可能得到一种硬度也很大的物质SiC，是生成粗硅还是生成该物质主要是由___决定的。
（2）反应①的条件是隔绝空气和____。
（3）写出制粗硅的反应的化学方程式____。
（4）写出硅与氢氧化钠溶液的离子方程式____。
（5）现在是用四氯化硅、氮气、氢气在稀有气体保护下加强热，得到纯度较高的氮化硅，其反应方程式为___。

【推荐1】太阳能光伏产业蓬勃发展，推动了高纯硅的生产和应用。工业上以硅石为原料制备高纯硅的工业流程如图所示。

已知：是常温下易挥发、遇水迅速生成其他物质的无色液体。
(1)Si在元素周期表中的位置是_______。
(2)“还原”需在高温条件下进行，该反应的化学方程式是_______。
(3)“氯化”时的还原产物是_______(填化学式)。
(4)“氯化”、“分离”和“热解”的过程必须在无水、无氧条件下进行，理由是_______。
(5)该流程中能循环利用的物质是_______(填两种)。
(6)高纯硅中常含有微量杂质，比如铁，对其进行测定的方法如下。
准确称取0.300g高纯硅样品用氢氟酸和稀硝酸溶解处理，配成100mL溶液，用羟胺，难电离)将还原为后，加入邻菲啰啉形成橘红色络合物，再利用吸光度法测得吸光度为0.5(吸光度与浓度的对应关系如图)。

①氢氟酸不能用玻璃试剂瓶保存的原因是_______。
②酸性条件下，羟胺与反应生成无污染气体的反应的离子方程式为_______。
③高纯硅样品中铁的质量为_______。

【推荐2】某实验小组设计了如下装置对焦炭还原二氧化硅的气体产物的成分进行探究。
   
已知：PdCl₂溶液可用于检验CO，反应的化学方程式为CO + PdCl₂ + H₂O = CO₂ + 2HCl + Pd（产生黑色金属钯粉末，使溶液变浑浊）。
（1）实验时要通入足够长时间的N₂，其原因是________________________。
（2）装置B的作用是____________________________。
（3）装置C、D中所盛试剂分别为___、___，若装置C、D中溶液均变浑浊，且经检测两气体产物的物质的量相等，则该反应的化学方程式为____________________________。
（4）该装置的缺点是____________________________。
（5）设计实验证明碳酸的酸性比硅酸的强：____________________________。