砷化铝(AlAs)常用作光谱分析试剂和制备电子组件的原料，也是一种新型半导体材料。某同学在实验室以
和
的混合物为原料制备AlAs，工艺流程如下：
下列说法错误的是
和的混合物为原料制备AlAs，工艺流程如下： 下列说法错误的是
| A．“碾碎焙烧”不能在瓷坩埚进行 |
B．为获得最多产品，“盐酸酸化”时 |
C．由“酸化”的溶液获得 固体，可采用如图所示装置 |
D．“气相沉积”时，温度应高于和 的沸点 |
更新时间：2023-09-28 11:38:29
|
相似题推荐
单选题
|
适中
(0.65)
名校
解题方法
【推荐1】在给定条件下，下列选项正确的是
①NaHCO3
Na2CO3
NaOH
②CaCO3
CaO
CaSiO3
③NH3
NO 
HNO3
④
⑤S
SO3H2SO4
⑥
①NaHCO3
Na2CO3NaOH ②CaCO3
CaOCaSiO3③NH3
NO HNO3④
⑤S
SO3H2SO4 ⑥
| A．有2项能实现 | B．有3项能实现 |
| C．有4项能实现 | D．以上转化均不能实现 |
您最近一年使用：0次
单选题
|
适中
(0.65)
【推荐2】下列陈述I、陈述Ⅱ均正确并且有因果关系的是
| 选项 | 陈述Ⅰ | 陈述Ⅱ |
| A | H2O2、SO2都能使酸性高锰酸钾溶液褪色 | 前者表现出还原性后者表现出漂白性 |
| B | 纯银器表面在空气中渐渐变暗 | 发生化学腐蚀 |
| C | SiO2能与氢氟酸及碱反应 | SiO2是两性氧化物 |
| D | BaSO4饱和溶液中加入饱和Na2CO3溶液有BaCO3生成 | 说明Ksp(BaSO4)>Ksp(BaCO3) |
| A．A | B．B | C．C | D．D |
您最近一年使用：0次
单选题
|
适中
(0.65)
解题方法
【推荐1】除去下列物质中的杂质，选用试剂不正确 的是
| A．CuO中混有Al2O3 NaOH溶液 | B．FeCl2溶液中混有FeCl3 铁粉 |
| C．FeCl3溶液中混有FeCl2 氯气 | D．NaOH溶液中混有Na2CO3 盐酸 |
您最近一年使用：0次
单选题
|
适中
(0.65)
【推荐2】下列物质不能与氢氧化钠溶液反应的是
| A．Al | B．Fe2O3 | C．Al(OH)3 | D．NaHCO3 |
您最近一年使用：0次
单选题
|
适中
(0.65)
名校
解题方法
【推荐1】下列离子方程式的书写及评价均合理的是
| 选项 | 离子方程式 | 评价 |
| A | 将2molCl2通入含有1molFeI2的溶液中：2Fe2++2I－+2Cl2 =2Fe3++I2+4Cl－ | 正确；Cl2过量，可将Fe2+、I－均氧化 |
| B | Mg(HCO3)2溶液与足量的NaOH溶液反应：Mg2++HCO +OH－=MgCO3↓+H2O | 正确；酸式盐与碱反应生成盐和水 |
| C | 过量SO2通入NaClO溶液中：SO2+H2O+ClO－=HClO+HSO | 正确；说明酸性H2SO3强于HClO |
| D | 1 mol·L−1 的NaAlO2溶液和2.5 mol·L−1 的HCl溶液等体积互相均匀混合：2AlO +5H+=Al3++Al(OH)3↓+H2O | 正确：AlO与H+产物由二者物质的量之比决定 |
| A．A | B．B | C．C | D．D |
您最近一年使用：0次
单选题
|
适中
(0.65)
名校
解题方法
【推荐2】下列物质和HCl、CO2、NH4Cl、NaHCO3均能反应的是
| A．Na2CO3溶液 | B．Al(OH)3 | C．AlCl3溶液 | D．NaAlO2溶液 |
您最近一年使用：0次
单选题
|
适中
(0.65)
解题方法
【推荐1】下列说法正确的是
| A．盐类水解破坏了水的电离平衡，促进水的电离 |
B．升高温度， +H2O NH3·H2O+H+平衡逆向移动 |
| C．将FeCl3溶液直接蒸干制备无水FeCl3 |
| D．盐类水解反应不一定都是吸热反应 |
您最近一年使用：0次
单选题
|
适中
(0.65)
解题方法
【推荐2】下列实验操作所对应的现象（或其他）、结论均正确的是
| 操作 | 现象（或其他） | 结论 | |
| A | 将铁片和铜片用导线连接后插入盛有浓硝酸的烧杯中组成原电池 | 铜片上有大量红棕色气体产生 | 铁比铜活泼 |
| B | 向含有酚酞的 训加入少量 溶液 | 颜色变浅 | 的电离平衡向右移动 |
| C | 用 试纸测定 溶液和 溶液的 | pH(NaCl)＞pH(NaF) |  溶于水完全电离 |
| D | 向足量溶液中滴加2滴氯水，再分别滴加①淀粉溶液②溶液 | ①溶液变蓝 ②无明显现象 | 还原性：I-＞Fe2+ |
| A．A | B．B | C．C | D．D |
您最近一年使用：0次
