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题型:解答题-有机推断题 难度:0.4 引用次数:436 题号:8358960
聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层,其合成路线如下:
   
   
已知:①R1、R2均为烃基
② 合成路线中A→B是原子利用率为100%的反应
回答下列问题:
(1)A的名称是_______________;F→G的反应类型为_____________
(2)C→D的化学反应方程式为_____________________________
(3)E的结构简式为_____________;H的顺式结构简式为_______________
(4)写出同时满足下列条件的G的同分异构体结构简式_________________
①属于芳香族化合物;②能与NaOH溶液发生反应;③核磁共振氢谱有4种吸收峰
(5)参照上述合成路线和相关信息,以乙烯和乙醛为原料(无机试剂任选)合成有机物   ,设计合成路线为:________________________

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【推荐1】化合物G是临床常用的镇静、麻醉药物,其合成路线如下:

回答下列问题:
(1)C中官能团的名称为_______
(2)X的化学名称为_______
(3)E→F的反应类型为 _______
(4)由C生成D的化学方程式为_______
(5)化合物E的同分异构体中,能与NaHCO3溶液反应,且1 mol该物质可消耗2 molNaHCO3的有_______种,其中核磁共振氢谱有3组峰,且峰面积之比为3:1:1的结构简式是_______
(6)参照上述合成路线并结合所学知识,设计仅以 和CH3OH为原料制备 的合成路线(无机试剂和溶剂任选)_______
2022-07-10更新 | 37次组卷
解答题-有机推断题 | 较难 (0.4)
【推荐2】聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层,其合成路线如下:

已知:R1-CHO+R2-CH2CHO
(1)A是一种无色气体,最简式是_______,C是一种常用塑料的成分,写出 C→D转化的化学方程式_______
(2)E 的结构简式为_______,F →G 的反应类型为_______
(3)M 中的含氧官能团的名称为_______
(4)G与新制氢氧化铜悬浊液在加热条件下反应的化学方程式为_______
(5)满足下列条件的 F 的同分异构体有_______种,写出其中核磁共振吸收峰面积之比为 6:2:1:1 的有机物的结构简式_______(写出一种即可)。
①属于芳香族化合物,苯环上一氯代物只有两种;②能发生水解反应和银镜反应。
2022-10-23更新 | 121次组卷
【推荐3】防晒剂(M)的合成路线如图所示,根据信息回答下列问题:

已知:①通常在同一个碳原子上连有两个羟基不稳定,易脱水形成羰基;

②R1CHO+R2CH2CHO+H2O
(1)M中醚键是一种极其稳定的化学键,除此之外还含有官能团的名称为___
(2)物质B的名称___
(3)C的结构简式___;D→E转化过程中第①步的化学反应方程式___
(4)完成Ⅴ的反应条件是___;Ⅳ的反应类型为___
(5)A也是合成阿司匹林()的原料,有多种同分异构体。写出符合下列条件的同分异构体有___种。写出苯环上的一氯代物有两种符合下列条件的同分异构体的结构简式___(任写出一种)
a.苯环上有3个取代基
b.仅属于酯类,能发生银镜反应,且每摩该物质反应时最多能生成4molAg
(6)以F及乙醛为原料,合成防晒剂的路线为___(用流程图表示)。流程示例:
2019-12-04更新 | 149次组卷
共计 平均难度:一般