【推荐1】A、B、C、D四种物质之间有下图所示的转化关系。
已知：A是气体单质，C 是红棕色气体。

回答下列问题：
（1）写出C的化学式：________；
（2）在上图D→B的过程中，D表现出强_____（填“氧化性”或“还原性”)；
（3）写出C→D转化的化学方程式__________________________________
（4）D→B的离子方程式_____________________________________________
（5）C 是红棕色气体，若A是气态氢化物，则A的电子式为___________

【推荐2】A、B、C、D四种元素是元素周期表中前20号元素，其原子序数依次增大，A是元素周期表中原子半径最小的元素，B的最外层电子数是次外层电子数的3倍，A的单质在C的单质中燃烧，发出苍白色火焰，D的原子核外N层电子数是K层电子数的一半。（第1题每空1分，其余每空2分，共16分）
(1)A为____；B为_____；C为______；D为________；（填元素符号）
(2)C离子的离子结构示意图为___________________
(3)A单质的结构式__________________________
(4) C在元素周期表中第________周期，___________族。
(5)写出D与水反应的化学方程式：_________________________________，所得溶液的pH__________7。

【推荐3】下图是中学常见物质间的转化关系。已知：
a．A为淡黄色固体，B为导致“温室效应”的主要物质；
b．E为常见金属，J为红褐色沉淀；
c．G在实验室中常用于检验B的存在；
d．L是一种重要的工业原料，常用于制造炸药，浓溶液常呈黄色。
回答下列问题：

(1)A的电子式____________。
(2)反应①的化学方程式为___________，反应②的离子方程式为______________，
(3)若参加反应的A的质量为39g，则消耗CO₂的体积(标况下)为__________L。

【推荐2】如图所示物质的转化关系中，A是一种固体单质，E是一种白色沉淀．请回答下列问题：

（1）B的化学式是___ ， 目前B已被用作___的主要原料．
（2）B和a溶液反应的离子方程式是___ ．
（3）A和a溶液反应的离子方程式是___ ．
（4）C和过量的盐酸反应的离子方程式是___ ．

【推荐3】高纯硅是现代信息。半导体和光伏发电等产业都需要的基础材料。工业上提纯硅有多种路线，其中一种工艺流程示意图及主要反应如下：

(1)工业上用石英砂和过量焦炭在电弧炉中高温加热生成粗硅，当有1molC参与反应时，该反应转移的电子数是_______。
(2)还原炉中发生的化学反应方程式为_______。
(3)上述工艺生产中循环使用的物质除Si、外，还有_______。
(4)工艺师常用氢氟酸来雕刻玻璃，该反应的化学方程式为_______。
(5)工业上可利用水玻璃和盐酸反应制备硅酸凝胶，进一步脱水处理可得到硅胶，写出水玻璃和盐酸反应的离子方程式：_______。

【推荐1】A、B、C、D均为中学化学常见的纯净物，A是单质。它们之间有如下的反应关系：
   
(1)若B是气态氢化物。C、D是氧化物且会造成光化学烟雾污染。写③反应的化学方程式_________。
(2)若D物质具有两性，②③反应均要用强碱溶液，④反应是通入过量的一种引起温室效应的主要气体。写④反应离子方程式_________________________________。
(3)若A是太阳能电池用的光伏材料。C、D为钠盐，两种物质中除钠、氧外的元素均为同一主族，且溶液均显碱性。写出②反应的化学方程式_____________________________。
(4)若A是当今应用最广泛的金属。④反应用到A，②⑤反应均用到同一种非金属单质。C的溶液用于蚀刻印刷铜电路板，写出该反应的离子方程式____________________________________。

【推荐2】硅是带来人类文明的重要元素之一，在传统材料发展到信息材料的过程中创造了一个又一个奇迹。
(1)新型陶瓷Si₃N₄的熔点高、硬度大、化学性质稳定。工业上可以采用化学气相沉积法，在H₂的作用下，使SiCl₄与N₂反应生成Si₃N₄沉积在石墨表面，该反应的化学方程式为________________________________________________________________________。
(2)一种用工业硅(含少量铁、铜的单质及化合物)和氮气(含少量氧气)合成氮化硅的工艺主要流程如下：

已知硅的熔点是1 420 ℃，高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅。
①N₂净化时，铜屑的作用是：__________________________；
硅胶的作用是_______________________________________。
②在氮化炉中反应为3Si(s)＋2N₂(g)===Si₃N₄(s)　ΔH＝－727.5 kJ/mol，开始时须严格控制氮气的流速以控制温度的原因是_____________________________________________________。
③X可能是________(选填“盐酸”、“硝酸”、“硫酸”或“氢氟酸”)。
(3)工业上可以通过如下图所示的流程制取纯硅：

①整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应，该反应的化学方程式为_______________________________。
②假设每一轮次制备1 mol纯硅，且生产过程中硅元素没有损失，反应Ⅰ中HCl的利用率为90%，反应Ⅱ中H₂的利用率为93.75%。则在第二轮次的生产中，补充投入HCl和H₂的物质的量之比是________。

【推荐3】工业上可用粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)与干燥的HCl气体反应制得SiHCl₃：Si+3HCl=SiHCl₃+H₂，SiHCl₃与过量的H₂在1000℃～1100℃反应制得纯硅。
有关物质的物理常数见下表：

物质	SiCl4	BCl3	AlCl3	FeCl3	SiHCl3	PCl5
沸点/℃	57.7	12.8	—	315	33.0	—
熔点/℃	-70.0	-107.2	—	—	-126.5	—
升华温度/℃	—	—	180	300		162

（1）粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl₃中含有少量SiCl₄，提纯SiHCl₃可采用
___________的方法
（2）实验室也可用SiHCl₃与过量干燥的H₂反应制取纯硅，装置如下图所示（加热和夹持装置略去）：
   
①装置B中的试剂是___________，装置C需水浴加热，目的是 ____________________。
②反应一段时间后，装置D中可观察到有晶体硅生成，装置D不能采用普通玻璃管的原因是_____________。

【推荐1】是锂离子电池中广泛应用的电解质。某工厂用LiF、为原料，低温反应制备，其流程如下：

已知：HCl的沸点是-85.0℃，HF的沸点是19.5℃。
(1)第①步反应中无水HF的作用是做反应物和___________。反应设备不能用玻璃材质的原因是___________(用化学方程式表示)。无水HF有腐蚀性和毒性，工厂安全手册提示：如果不小心将HF沾到皮肤上，可立即用2%的___________溶液冲洗。
(2)该流程需在无水条件下进行，第②步反应中极易水解，其产物为两种酸，写出水解的化学方程式：___________。
(3)第④步分离采用的方法是___________；第⑤步分离尾气中HF、HCl采用的方法是___________。
(4)产品中通常混有少量LiF．取样品w g，测得Li的物质的量为n mol，则该样品中的物质的量为___________mol(用含有w、n的代数式表示)。

【推荐2】X、Y、Z、W为四种短周期元素。X原子最外层电子数是核外电子层数的3倍；Y最高正价与最低负价的代数和为6；Z在地壳中的含量仅次于氧；Y、Z、W同周期，W的最低负化合价为-2。回答下列问题：
（1）Y^-的结构示意图为____________。
（2）写出含有10个中子的X原子的原子符号_____________。
（3）Z的最高价氧化物与Z同主族的单质A能发生置换反应，这个反应在工业上是获得Z的一步重要反应。写出该步反应的化学方程式，并用单线桥法标出电子转移的方向与数目________________。
（4）向WX₂溶液中加入足量的NaOH溶液，反应的离子方程式为___________。
（5）Y的气态氢化物与氨气在空气中相遇有白烟生成，该反应的化学方程式为_____________。
（6）ZX₂与NaOH溶液反应的化学方程式为_____________________。

【推荐3】高锰酸钾是一种用途广泛的常见氧化剂，主要用于化工、防腐及制药工业等。
I.某课外小组设计以锰酸钾制备高锰酸钾的方案如下：
i.锰酸钾的制备：
(1)将二氧化锰、氨酸钾和氢氧化钾固体放入___(填字母)中熔融制锰酸钾。
A. 烧杯   B. 瓷坩埚   C. 蒸发皿   D. 铁坩埚
ii.高锰酸钾的制备(装置如图所示，加热及夹持装置省略)：
将i中制得的锰酸钾加少量蒸馏水溶解，得墨绿色溶液，倒入三颈烧瓶中。打开甲装置中的分液漏斗活塞加入稀硫酸，加热，使生成的乙酸进入乙装置中并水浴加热。搅拌丙装置中的溶液，锰酸钾在酸性条件下反应生成高锰酸钾和二氧化锰。

(2)检验该装置气密性的方法：连接好装置，___。
(3)乙装置的作用是__；丁装置中NaOH溶液的作用是________。
(4)将三颈烧瓶中所得产物进行过滤，将滤液倒入蒸发皿中，_____、_____、抽滤，得到针状的高锰酸钾晶体。高锰酸钾晶体只能低温烘干，其原因为_____。
II.利用氧化还原滴定法测定高锰酸钾的纯度
(5)量取一定体积的高锰酸钾溶液需使用滴定管____(填字母)。
A. B.
(6)若在实验过程中存在下列操作，会使所测KMnO₄浓度偏高的是____(填字母)。
A. 锥形瓶用水洗之后未用待测液润洗
B. 盛草酸溶液的滴定管滴定前尖嘴部分有气泡，滴定终点时无气泡
C. 滴定时，草酸溶液洒落瓶外
D. 盛装KMnO₄溶液的滴定管用水洗后，未用KMnO₄溶液润洗