工业上以软锰矿(主要成分是MnO2，含有SiO2、Fe2O3等少量杂质)为主要原料制备高性能的磁性材料碳酸锰(MnCO3)，其工业流程如图。下列说法错误的是
A．浸锰过程中 与 反应的离子方程式为： |
B．过滤I所得滤液中主要存在的金属阳离子为 和 |
C．滤渣Ⅱ的主要成分含有 |
D．加入 溶液发生反应的主要离子方程式为： |
更新时间：2024-04-13 15:49:32
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【推荐1】不能 正确表示下列变化的离子方程式是
A．二氧化硫与酸性高锰酸钾溶液反应：5SO2＋2H2O＋2  2Mn2+＋5 ＋4H+ |
| B．酸性碘化钾溶液中滴加适量双氧水：2I−＋2H+＋H2O2I2＋2H2O |
| C．FeSO4酸性溶液暴露在空气中：4Fe2＋＋O2＋4H＋===4Fe3＋＋2H2O |
D．电解MgCl2水溶液：2Cl－＋2H2O 2OH－＋Cl2↑＋H2↑ |
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解题方法
【推荐2】下列反应的离子方程式正确的是
A．用小苏打治疗胃酸过多∶ |
B．AlCl3溶液中加入足量的氨水∶ |
C．用FeCl3溶液腐蚀印刷电路板上铜箔∶ |
D．向稀硫酸中加入Ba(OH)2溶液∶ |
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溶液反应：
单选题
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【推荐1】由重晶石矿(主要成分是BaSO4，还含有SiO2等杂质)可制得氯化钡晶体，某兴趣小组设计实验流程如下。
下列说法正确的是
下列说法正确的是
| A．为提高原料的利用率，“高温焙烧”前原料需经研磨处理 |
| B．“高温焙烧”和“结晶”两处操作均需用到蒸发皿 |
| C．在“高温焙烧”焦炭和BaSO4的反应中，氧化剂与还原剂的物质的量之比为4：1 |
| D．因盐酸具有挥发性，上述流程中须用硫酸代替盐酸进行浸取 |
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解题方法
【推荐2】实验室由MnO2制取KMnO4的流程如图：
下列说法错误的是
下列说法错误的是
| A．步骤①发生反应2MnO2+O2+4KOH=2K2MnO4+2H2O |
| B．步骤②用到的玻璃仪器有烧杯、漏斗和玻璃棒 |
| C．试剂X可为石灰乳 |
| D．上述流程中只有MnO2可循环利用 |
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【推荐1】用低品铜矿(主要含CuS、FeO)制备
的一种工艺流程如下：
下列说法正确的是
的一种工艺流程如下：下列说法正确的是
A．“酸浸”过程中CuS发生反应的离子方程式为： |
B．已知酸浸液中含 ，为检验是否含有，可先加入KSCN溶液，再加氯水观察现象 |
| C．1个晶胞(如图)中含4个氧原子 |
| D．水合肼浓度过大，产率下降，可能的原因是进一步被还原成单质铜 |
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解题方法
【推荐2】电子工业常用
溶液腐蚀覆铜板上的铜箔，制造印刷电路板。从腐蚀废液(主要含、
、
)中回收铜，并重新获得溶液，处理流程如下：
溶液腐蚀覆铜板上的铜箔，制造印刷电路板。从腐蚀废液(主要含、、)中回收铜，并重新获得溶液，处理流程如下：
A． 溶液腐蚀铜箔的原理为 |
| B．反应1和反应2都发生了氧化还原反应 |
| C．实验室中进行操作1时，用到的主要玻璃仪器有漏斗、烧杯和玻璃棒 |
| D．滤渣a的主要成分是Cu和Fe，物质X可以选用氯气 |
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【推荐1】通过下列实验可以从废铜屑中制取CuSO4·5H2O。
下列说法正确的是
下列说法正确的是
| A．加入Na2CO3溶液的作用是除去废铜屑表面的油污 |
| B．“氧化”时反应的离子方程式：Cu+H2O2+2H+=Cu2++H2O |
| C．操作1是蒸发浓缩、冷却结晶 |
| D．将CuSO4·5H2O加热到1000℃以上会分解得到Cu2O，1个Cu2O晶胞(如图)中含1个氧原子 |
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【推荐2】.除去粗盐溶液中的Ca2＋、Mg2＋、SO42- 等杂质，需依次加入稍过量的NaOH溶液、X溶液、Y溶液，过滤，向滤液中滴加稀盐酸调至中性。其中X、Y分别是
| A．Na2 CO3 Ba(NO3)2 | B．Ba(NO3)2 Na2 CO3 |
| C．Na2 CO3 BaCl2 | D．BaCl2 Na2 CO3 |
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