1 . 电子工业常用FeCl3溶液腐蚀印刷电路板上不需要的铜箔,最后得到含FeCl3、FeCl2杂质的CuCl2溶液。某化学兴趣小组设计下列方案,从该废液中 除去FeCl3、FeCl2杂质,制取纯净的CuCl2。
请回答下列问题:
(1)在①步操作中使用了氧化剂,下列氧化剂中一定不能使用的是_______ 。
A.Cl2 B.NaClO C.H2O2 D.KMnO4 E.O3
(2)②步操作中的“沉淀剂”可以是下列中的_______ 。
A.NaOH B.NH3·H2O C.CuO D.Cu2(OH)2CO3 E.Fe2O3
用一种你选择的沉淀剂,分步写出除去杂质的离子方程式:_______ 。
(3)最后将滤液在HCl气流中蒸干,其目的是_______ ,如果将滤液直接加热蒸干,最后得到的固体可能是_______ 。
(4)设常温下各沉淀的溶度积近似为:Ksp[Cu(OH)2]=10-20、Ksp[Fe(OH)3]=10-38、Ksp[Fe(OH)2]=10-16;通常,人们把浓度小于10-5mol/L的离子视为“不存在”。根据所给条件,完成下列问题:
①如果该废液中CuCl2的浓度为1 mol/L,在加沉淀剂时应调节溶液的pH值范围为:_______ 。
②如果对废液不先用氧化剂,而是直接加入沉淀剂,带来的后果是:_______ 。
请回答下列问题:
(1)在①步操作中使用了氧化剂,下列氧化剂中一定不能使用的是
A.Cl2 B.NaClO C.H2O2 D.KMnO4 E.O3
(2)②步操作中的“沉淀剂”可以是下列中的
A.NaOH B.NH3·H2O C.CuO D.Cu2(OH)2CO3 E.Fe2O3
用一种你选择的沉淀剂,分步写出除去杂质的离子方程式:
(3)最后将滤液在HCl气流中蒸干,其目的是
(4)设常温下各沉淀的溶度积近似为:Ksp[Cu(OH)2]=10-20、Ksp[Fe(OH)3]=10-38、Ksp[Fe(OH)2]=10-16;通常,人们把浓度小于10-5mol/L的离子视为“不存在”。根据所给条件,完成下列问题:
①如果该废液中CuCl2的浓度为1 mol/L,在加沉淀剂时应调节溶液的pH值范围为:
②如果对废液不先用氧化剂,而是直接加入沉淀剂,带来的后果是:
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解题方法
2 . 为除去某物质中所含的杂质,所选用的除杂试剂或操作方法正确的是
序号 | 物质 | 杂质 | 除杂试剂或操作方法 |
① | NaCl | Na2CO3 | 溶解,加入过量盐酸,蒸发 |
② | FeSO4溶液 | CuSO4 | 加入过量铁粉并过滤 |
③ | H2 | CO2 | 依次通过盛有NaOH溶液和浓硫酸的洗气瓶 |
④ | NaNO3 | CaCO3 | 加稀盐酸、过滤、蒸发结晶 |
A.①②③ | B.②③④ | C.①③④ | D.①②③④ |
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2021-10-19更新
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125次组卷
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4卷引用:重庆市巫山县官渡中学2020-2021学年高一下学期第二次月考化学试题