8. 芯片是信息革命的核心技术和主要推动力,利用高温电炉冶炼得到的粗硅难以满足制作芯片所需要的纯度要求,因此必须对粗硅进行提纯。工业上采用Si与HCl在350℃左右的条件下反应生成SiHCl
3,之后将其还原、结晶得到高纯度的单晶硅产品。已知SiHCl
3的熔点为-128℃,沸点为33℃,且遇O
2与H
2O均剧烈反应。现要在实验室中制取少量SiHCl
3,其实验装置如下图所示,下列说法不正确的是
A.不可以用无水CaCl2、硅胶等固体干燥剂替换干燥管中的碱石灰 |
B.使用浓H2SO4和NaCl混合加热制取利用了浓H2SO4的难挥发性 |
C.冰盐浴的目的为降低收集容器的温度,使SiHCl3冷凝为液体 |
D.工业上用过量焦炭与石英砂混合冶炼粗硅,其反应为 |