1 . 光刻胶主要应用于显示面板、集成电路等细微图形加工，其合成路线如图(部分试剂和产物略)。

已知：①+R₂CH₂CHO(、为羟基或氢原子)
②+ R₂OH+ HCl
(1)A的结构简式为___________；C中所含官能团的名称为___________。
(2)羧酸X的名称为___________。
(3)E物质不能发生的反应是___________(填序号)
a．加成反应       b．消去反应       c．取代反应       d．加聚反应       e．缩聚反应
(4)D和G反应生成光刻胶的化学反应方程式为___________。
(5)写出满足下列条件的B的一种同分异构体的结构简式：___________。
①分子中含有苯环；②能发生银镜反应；③核磁共振氢谱峰面积之比为2：2：2：1：1
(6)结合已有知识和相关信息，完善为原料制备的合成路线的最后两步(无机试剂任选)。__________

2 . 诺氟沙星(Norfloxacin，又名Noroxin、Fulgram)，别名：力醇罗、氟哌酸、淋克星。为喹诺酮类抗生素，是治疗肠炎痢疾的常用药。但此药对未成年人骨骼形成有延缓作用

回答下列问题：
(1)化合物A的名称是 ___________。
(2)诺氟沙星分子中含氧官能团的名称为 ___________。
(3)C生成D，G生成H的反应类型分别是 ___________、___________。
(4)F的结构简式为 ___________。
(5)G生成H的化学方程式为 ___________。
(6)有机物X比B分子少一个CH₂原子团，且含有酯基和结构其中核磁共振氢谱有三组峰，峰面积比为1：3：3的结构简式为 ___________(任写一种)。
(7)参照上述合成路线写出由有机物、B为有机原料合成的路线图 ___________(无机试剂任选)。