组卷网 > 高中化学综合库 > 认识化学科学 > 氧化还原反应 > 氧化还原反应基本概念 > 氧化还原反应的几组概念
题型:单选题 难度:0.65 引用次数:162 题号:16638201
工业制硅第二步反应为SiHCl3+H2Si+3HCl,下列说法不正确的是
A.SiHCl3中的Si呈+4价,分子空间结构为四面体形
B.该反应中SiHCl3既是氧化剂又是还原剂
C.该反应说明在该温度下氢气的还原性强于硅单质
D.当1 mol H2完全反应时,该反应转移2 mol电子

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A.氯酸钾被氧化
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