软锰矿主要成分为,含少量和等杂质,以软锰矿为主要原料吸收脱除工业含硫烟气中的,制备纯净的工艺流程如图。
已知:常温下,不同金属离子生成氢氧化物沉淀的如下表:
回答下列问题:
(1)“溶浸”所用吸收塔如图所示,描述有利于提高吸收效率的设计之一:_______ 。
(2)调节溶液的前,加入软锰矿的作用是_______ 。
(3)“调节”时可选用的试剂为_______ (填化学式)。调节,充分反应后生成的沉淀为_______ 。
(4)“沉锰”过程中再次加入氨水的目的是_______ (从化学平衡移动的角度解释)。“沉锰”过程宜在较低温度下进行,可能原因是_______ (写1条即可)。
已知:常温下,不同金属离子生成氢氧化物沉淀的如下表:
离子 | |||
开始沉淀时 | 1.8 | 7.7 | 7.8 |
完全沉淀时 | 3.2 | 9.7 | 9.8 |
(1)“溶浸”所用吸收塔如图所示,描述有利于提高吸收效率的设计之一:
(2)调节溶液的前,加入软锰矿的作用是
(3)“调节”时可选用的试剂为
(4)“沉锰”过程中再次加入氨水的目的是
更新时间:2022-11-17 16:58:23
|
相似题推荐
解答题-工业流程题
|
适中
(0.65)
名校
解题方法
【推荐1】海水是巨大的资源宝库,下图是人类从海水中提取某些重要化工原料的简单流程示意图。
请回答下列问题
(1)操作A是蒸发结晶和_______ (填实验基本操作名称)。
(2)由无水氯化镁制得的镁蒸汽在特定的环境中冷却后即为固体镁。下列物质中可以用作镁蒸汽的冷却剂的是_______ (填字母)。
A.Ar B.氮气 C.O2 D.水蒸气 E.CO2
(3)工业上由无水MgCl2制取镁的化学方程式为_______ 。
(4)向苦卤中通入Cl2,发生反应的离子方程式是_______ ,用SO2水溶液吸收Br2,吸收率可达95%,有关反应的离子方程式为_______ 。
(5)从海水中提取溴约占世界溴年产量的,从海水中提取溴据上述图的主要步骤表示为
请回答下列问题
(1)操作A是蒸发结晶和
(2)由无水氯化镁制得的镁蒸汽在特定的环境中冷却后即为固体镁。下列物质中可以用作镁蒸汽的冷却剂的是
A.Ar B.氮气 C.O2 D.水蒸气 E.CO2
(3)工业上由无水MgCl2制取镁的化学方程式为
(4)向苦卤中通入Cl2,发生反应的离子方程式是
(5)从海水中提取溴约占世界溴年产量的,从海水中提取溴据上述图的主要步骤表示为
A.氧化→吸收→吹出→氧化 | B.氧化→吸收→氧化→吹出→蒸馏 |
C.吹出→氧化→吸收→氧化 | D.氧化→吹出→吸收→氧化→蒸馏 |
您最近一年使用:0次
解答题-工业流程题
|
适中
(0.65)
名校
【推荐2】某研究小组利用某酸性腐蚀废液(含、、、),制取铵明矾的流程如下:
回答下列问题:
(1)请写出加入铁屑时发生反应的离子方程式:___________ 。
(2)为了使步骤Ⅱ中氧化不引入新的杂质,最好选用的氧化剂是___________ (填化学式)。
(3)检验溶液中含有的方法是___________ 。
(4)工业上将流程中产生的滤渣用碱性溶液氧化可生成一种高效净水剂(),写出对应的离子方程式:___________ 。
(5)固体铵明矾加热过程中,固体质量随温度的变化如图所示。
若将铵明矾加热灼烧,400℃时剩余固体成分的化学式为___________ 。在温度从800℃到950℃的过程中得到的两种氧化物,一种为固体,该固体为___________ (填化学式),一种为氧化性气体,该气体是___________ (填化学式)。
回答下列问题:
(1)请写出加入铁屑时发生反应的离子方程式:
(2)为了使步骤Ⅱ中氧化不引入新的杂质,最好选用的氧化剂是
(3)检验溶液中含有的方法是
(4)工业上将流程中产生的滤渣用碱性溶液氧化可生成一种高效净水剂(),写出对应的离子方程式:
(5)固体铵明矾加热过程中,固体质量随温度的变化如图所示。
若将铵明矾加热灼烧,400℃时剩余固体成分的化学式为
您最近一年使用:0次
解答题-工业流程题
|
适中
(0.65)
【推荐1】印刷铜制电路板蚀刻液的选取和回收再利用一直是研究的热点。常用的蚀刻液主要有传统的FeCl3型(HCl—FeCl3)、酸性的过氧化氢型(HCl—H2O2)等。
Ⅰ.某兴趣小组模拟FeCl3型蚀刻液的蚀刻过程,并回收Cu和蚀刻液(FeCl3溶液)的流程如图:回答下列问题:
(1)“蚀刻”时发生反应的化学方程式为___ 。
(2)证明“反应Ⅰ”后所得“滤液”中不含Fe3+的实验操作及预期实验现象是___ 。
(3)“滤渣A”的成分为___ (填写名称,下同)。“试剂C”是___ 。
(4)“滤液B”与氯气“再生”时发生反应的离子方程式为___ 。
Ⅱ.应用酸性的过氧化氢型(HCl—H2O2)蚀刻液,产生的蚀刻废液处理方法如图:(5)蚀刻铜板主要反应的离子方程式为___ 。
(6)回收Cu2(OH)2CO3的过程中需控制反应的温度,当温度高于80℃时,产品颜色发暗,其原因可能是___ 。
Ⅰ.某兴趣小组模拟FeCl3型蚀刻液的蚀刻过程,并回收Cu和蚀刻液(FeCl3溶液)的流程如图:回答下列问题:
(1)“蚀刻”时发生反应的化学方程式为
(2)证明“反应Ⅰ”后所得“滤液”中不含Fe3+的实验操作及预期实验现象是
(3)“滤渣A”的成分为
(4)“滤液B”与氯气“再生”时发生反应的离子方程式为
Ⅱ.应用酸性的过氧化氢型(HCl—H2O2)蚀刻液,产生的蚀刻废液处理方法如图:(5)蚀刻铜板主要反应的离子方程式为
(6)回收Cu2(OH)2CO3的过程中需控制反应的温度,当温度高于80℃时,产品颜色发暗,其原因可能是
您最近一年使用:0次
解答题-工业流程题
|
适中
(0.65)
名校
解题方法
【推荐2】某科研人员以废镍催化剂(主要成分为NiO,另含、CaO、CuO、BaO)为原料回收镍,工艺流程如图:
已知:①常温下,有关氢氧化物开始沉淀和沉淀完全的pH如表:
②在图示条件下,不能将Ni(II)氧化成Ni(III)
回答下列问题:
(1)酸浸时,为提高浸取速率,可采取的措施有___________ (只答一条即可)。
(2)滤渣II主要成分为___________ 、___________ (填化学式)。
(3)“氧化”的目的是___________ ;写出该反应的离子方程式___________ 。
(4)“调pH”时,pH的控制范围为___________ 。
(5)“除钙”后,若溶液中浓度为,则_______ [已知常温下,)]
(6)电解产生的原理分两步:①碱性条件下,在阳极被氧化为;②被氧化产生沉淀,则第②步反应的离子方程式为______ 。
已知:①常温下,有关氢氧化物开始沉淀和沉淀完全的pH如表:
1.5 | 6.5 | 7.7 |
3.7 | 9.7 | 9.2 |
回答下列问题:
(1)酸浸时,为提高浸取速率,可采取的措施有
(2)滤渣II主要成分为
(3)“氧化”的目的是
(4)“调pH”时,pH的控制范围为
(5)“除钙”后,若溶液中浓度为,则
(6)电解产生的原理分两步:①碱性条件下,在阳极被氧化为;②被氧化产生沉淀,则第②步反应的离子方程式为
您最近一年使用:0次
解答题-工业流程题
|
适中
(0.65)
名校
【推荐3】工业上采用硫铁矿焙烧去硫后的烧渣(主要成分为Fe2O3、FeO、SiO2、Al2O3,不考虑其他杂质) 制取七水合硫酸亚铁(FeSO4•7H2O)的流程如图:
(1)FeO属于碱性氧化物,写出FeO与硫酸反应的化学方程式___________
(2)FeCl3可用于作净水剂,是因为其溶于水能形成Fe(OH)3胶体具有___________ 性,FeCl3溶液中分散质粒子的直径___________ (填“>”或“<”)10-9m。
(3)“转化”是为了将溶液中的Fe2(SO4)3转化为FeSO4.一种方法是向溶液中加入铁粉,发生反应的离子方程式为___________ ;另一种方法是向溶液中通入SO2,发生反应的离子方程式为___________ 。
(1)FeO属于碱性氧化物,写出FeO与硫酸反应的化学方程式
(2)FeCl3可用于作净水剂,是因为其溶于水能形成Fe(OH)3胶体具有
(3)“转化”是为了将溶液中的Fe2(SO4)3转化为FeSO4.一种方法是向溶液中加入铁粉,发生反应的离子方程式为
您最近一年使用:0次
解答题-工业流程题
|
适中
(0.65)
【推荐1】以铁屑(表面含少量Fe2O3)为原料先制备FeC2O4•2H2O,再通过灼烧、还原制备高纯度还原铁粉的工艺流程如图:
(1)酸溶。将铁屑溶于足量的稀H2SO4中过滤所得溶液经检验不含Fe3+。
①检验酸溶后的溶液是否含Fe3+的实验操作是_____ 。
②滤液中不存在Fe3+的原因是_____ 。
(2)沉淀、过滤。向酸溶后的溶液中滴加稍过量的H2C2O4(二元弱酸),过滤得FeC2O4•2H2O。
①沉淀反应的离子方程式为_____ 。
②沉淀中FeC2O4•2H2O含量的测定:准确称取6.300g沉淀,加入适量蒸馏水和稀硫酸溶解、酸化,并转移入250mL容量瓶中定容,取25.00mL溶液,向其中滴加0.1000mol•L-1KMnO4溶液,完全反应时,消耗KMnO4溶液20.00mL。过程中发生的反应为:3MnO+5FeC2O4+24H+=3Mn2++5Fe3++10CO2↑+12H2O(假设杂质不参与反应)。计算沉淀中FeC2O4•2H2O(相对分子质量为180)的质量分数______ (保留四位有效数字,写出计算过程)。
(3)灼烧。在氧气流中灼烧FeC2O4•2H2O得Fe2O3、CO2。灼烧时发生反应的化学方程式为_____ 。
(4)还原。为制得高纯度的还原铁粉,以下还原剂最合适的是_____ 。
A.碳粉B.铝粉C.氢气
(1)酸溶。将铁屑溶于足量的稀H2SO4中过滤所得溶液经检验不含Fe3+。
①检验酸溶后的溶液是否含Fe3+的实验操作是
②滤液中不存在Fe3+的原因是
(2)沉淀、过滤。向酸溶后的溶液中滴加稍过量的H2C2O4(二元弱酸),过滤得FeC2O4•2H2O。
①沉淀反应的离子方程式为
②沉淀中FeC2O4•2H2O含量的测定:准确称取6.300g沉淀,加入适量蒸馏水和稀硫酸溶解、酸化,并转移入250mL容量瓶中定容,取25.00mL溶液,向其中滴加0.1000mol•L-1KMnO4溶液,完全反应时,消耗KMnO4溶液20.00mL。过程中发生的反应为:3MnO+5FeC2O4+24H+=3Mn2++5Fe3++10CO2↑+12H2O(假设杂质不参与反应)。计算沉淀中FeC2O4•2H2O(相对分子质量为180)的质量分数
(3)灼烧。在氧气流中灼烧FeC2O4•2H2O得Fe2O3、CO2。灼烧时发生反应的化学方程式为
(4)还原。为制得高纯度的还原铁粉,以下还原剂最合适的是
A.碳粉B.铝粉C.氢气
您最近一年使用:0次
解答题-工业流程题
|
适中
(0.65)
【推荐2】化工催化剂中往往含有大量有用成分,其回收利用具有重要意义。以某种废镍催化剂(主要成分为NiCO3和SiO2,含少量Fe2O3、Cr2O3)为原料制备硫酸镍和重铬酸钾晶体的工业流程如图:
已知:
①NiS、Ni(OH)2、Cr(OH)3均难溶于水;
②Cr(OH)3是两性氢氧化物,碱性溶液中以Cr(OH)4-形式存在,酸性溶液中以Cr3+形式存在;
③Ni(OH)2能溶于氨水生成[Ni(NH3)6]2+。
根据上述信息回答下列问题:
(1)滤渣I和滤渣II的主要成分分别为___ 、___ 。
(2)“碱析”中Cr元素转化的离子反应方程式为___ 。
(3)“氧化I”的离子方程式为___ 。
(4)进行“氧化II”时,所加KMnO4溶液须过量,原因是___ 。
(5)“系列操作b”包括___ 、___ 、过滤、洗涤、干燥。为了减少K2Cr2O7晶体的损耗,最好选用下列物质中的作___ 洗涤剂。
A.酒精 B.饱和氯化钠溶液 C.20℃蒸馏水 D.40℃蒸馏水
(6)用1吨该废镍催化剂(NiCO3含量为75%)为原料通过以上方法制取NiSO4·7H2O晶体,制取过程中Ni的损失率为4.8%,可以制得NiSO4·7H2O晶体的质量为___ kg。
已知:
①NiS、Ni(OH)2、Cr(OH)3均难溶于水;
②Cr(OH)3是两性氢氧化物,碱性溶液中以Cr(OH)4-形式存在,酸性溶液中以Cr3+形式存在;
③Ni(OH)2能溶于氨水生成[Ni(NH3)6]2+。
根据上述信息回答下列问题:
(1)滤渣I和滤渣II的主要成分分别为
(2)“碱析”中Cr元素转化的离子反应方程式为
(3)“氧化I”的离子方程式为
(4)进行“氧化II”时,所加KMnO4溶液须过量,原因是
(5)“系列操作b”包括
A.酒精 B.饱和氯化钠溶液 C.20℃蒸馏水 D.40℃蒸馏水
(6)用1吨该废镍催化剂(NiCO3含量为75%)为原料通过以上方法制取NiSO4·7H2O晶体,制取过程中Ni的损失率为4.8%,可以制得NiSO4·7H2O晶体的质量为
您最近一年使用:0次
解答题-工业流程题
|
适中
(0.65)
【推荐3】铝镍合金粉经活化处理制得的雷尼镍触媒是一种高活性催化剂,主要应用于催化加氢、有机合成等生产过程。经反复使用后,其活性逐渐降低,失活后变成废镍催化剂,该废镍催化剂的原料组成见下表:
工业上对该催化剂进行处理并回收Al和Ni.工艺流程如下,请回答下列问题:
(1)焙烧的目的是___________ 。
(2)请任写一条“滤渣1”在工业上的用途:___________ 。
(3)调pH之前先加入的目的是___________ 。“滤液3”与过量发生的离子方程式为___________ 。
(4)“一系列操作”是___________ 。
(5)“滤渣3”中含有两种金属元素,向“滤渣3”中加入过量___________ (填试剂名称),过滤,可以分离两种元素。
(6)氧化镍(NiO)是一种重要的半导体材料,其晶体结构与NaCl相同,其中每个镍离子周围有___________ 个最近的氧离子,与最近的核间距离为anm,则NiO晶体的密度是___________ (写出表达式即可)。
名称 | 有机物 | Ni | Al | Fe | Cu | |
质量分数/% | 13.5 | 40.2 | 36.3 | 2.7 | 1.3 | 6 |
(1)焙烧的目的是
(2)请任写一条“滤渣1”在工业上的用途:
(3)调pH之前先加入的目的是
(4)“一系列操作”是
(5)“滤渣3”中含有两种金属元素,向“滤渣3”中加入过量
(6)氧化镍(NiO)是一种重要的半导体材料,其晶体结构与NaCl相同,其中每个镍离子周围有
您最近一年使用:0次