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题型:解答题-实验探究题 难度:0.4 引用次数:202 题号:20990013
已知:,氢氧化铜悬浊液受热易分解生成。蚀刻含铜电路板有多种方法,用蚀刻废液可制备
(1)酸性蚀刻液法(过氧化氢-盐酸法)。
①用过氧化氢和盐酸蚀刻含铜电路板时发生的离子反应方程式为_______
②反应后有气泡产生,且反应一段时间后,随着溶液变蓝,产生气泡的速率加快,可能的原因是_______
(2)碱性蚀刻液法。碱性含铜蚀刻液主要成分为、氨水、氯化铵等。蚀刻过程中,与电路板上的铜发生反应生成,失去蚀刻能力,通入空气可恢复蚀刻能力。
键的数目为_______
②蚀刻能力恢复的化学方程式为_______
(3)酸性蚀刻废液与碱性蚀刻废液混和可析出沉淀,pH在4~5之间易生成氢氧化铜胶体。酸性蚀刻废液与碱性蚀刻废液混和反应装置如图1所示。不同pH时,铜元素回收率如图2所示。

①为减少胶体形成而影响后续操作,溶液A为_______(选填“酸性”或“碱性”)蚀刻废液。
时,铜元素回收率下降的原因为_______
(4)设计从酸性蚀刻废液中制备氧化铜的实验方案。向一定质量的酸性蚀刻废液中_______。(实验中必须使用的试剂:20%溶液、硝酸银溶液、稀硝酸、蒸馏水)

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A.                  B.            C.             D.
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