【推荐1】在下列括号中填上系数，并完成相应空格：
(1)(       )CO + (       )NO   = (       ) N₂ + (       )CO₂在此反应中属于氧化剂的是 _____，CO在反应中表现出 ____ 性。
(2)(       )ClO^— + (       )Fe³⁺ + 10 OH^— = (       )FeO+ (       )Cl^— + 5H₂O在此反应中属于还原剂的是 _____，属于氧化产物的是 ____。

【推荐2】已知氮元素及其化合物的转化关系如下图所示，回答下列问题。

(1)已知1mol氨气发生反应②，完全反应生成NO和水蒸气时放出226kJ的热，该反应的热化学方程式是_______。
(2)反应④的离子方程式为_______。理论上如图N₂合成1mol硝酸，至少需要氧气共_______mol。
(3)汽车尾气净化装置中，气体在催化剂表面吸附与解吸作用的过程如图所示，该过程的总反应化学方程式为_______。

(4)工业制硝酸时尾气中含有NO、NO₂，可用NaOH溶液吸收。发生的反应有：2NaOH+NO+NO₂=2NaNO₂+H₂O，2NaOH+2NO₂=NaNO₃+NaNO₂+H₂O，用不同浓度的NaOH溶液吸收NO₂含量不同的尾气，关系如下图：

(α表示尾气里NO、NO₂中NO₂的含量)
①根据上图得知_______(填字母)。
A．NaOH溶液浓度越大，氮氧化物的吸收率越大
B．NO₂含量越大，氮氧化物的吸收率越大
②当α小于50%时，加入H₂O₂能提升氮氧化物的吸收率，原因是_______。

【推荐3】硅单质及其化合物应用范围很广。
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备高纯硅。
Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅；
Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450～500 ℃条件下反应制得SiCl₄；
Ⅲ.SiCl₄液体经精馏提纯后与过量H₂在1 100～1 200 ℃条件下反应制得高纯硅。
已知SiCl₄沸点为57.6 ℃，能与H₂O强烈反应。
请回答下列问题：
①第Ⅲ步反应的化学方程式为____________________________________。
②整个制备纯硅的过程中必须严格控制在无水无氧的条件下。SiCl₄在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是_______；H₂还原SiCl₄过程中若混入O₂，可能引起的后果是________________________________________。
(2)二氧化硅被大量用于生产玻璃。工业上用SiO₂、Na₂CO₃和CaCO₃共283 kg在高温下完全反应时放出CO₂ 44 kg，生产出的玻璃可用化学式Na₂SiO₃·CaSiO₃·xSiO₂表示，则其中x＝________。

【推荐1】足量铜与一定量的浓硝酸反应，得到硝酸铜溶液、、NO和的混合气体。这些气体与5.6L(标准状况下)的混合后通入水中，所有气体恰好完全被水吸收生成硝酸。(已知：)
(1)写出上述反应中所涉及到的反应方程式_______(是离子反应的只写离子方程式)。
(2)消耗的Cu的质量是_______g，整个实验过程(包括后续气体与混合通入水中)中消耗的硝酸的物质的量是_______mol。

【推荐2】化学上用分类法学习化学物质的共性，用比较法学习化学物质的特性，物质的氧化性与还原性尤为重要。回答下列问题：
(1)磷元素的含氧酸有（亚磷酸）、（次磷酸）等多种，其中已知：
（过量）。属于_______（填“一”、“二”或“三”）元酸。属于_______（填“正盐”或“酸式盐”）。
(2)在甲烷厌氧氧化菌的作用下，氢氧化铁和甲烷发生如下反应，配平该离子方程式，并用单线桥表示电子转移的方向和数目：______

(3)某种钇矿石（其中化合价分别为）溶于稀盐酸不产生污染，其中的价态不变，全部被还原为，写出该反应的离子方程式_______。
(4)（B为+3价）、与相同氧化剂反应时，的还原能力相当于_______的还原能力（B元素化合价不变，氧化产物中氢元素化合价相同）。
(5)已知酸性，少量与反应的离子方程式为_______，漂白液在空气中放置一段时间后漂白效果更佳的原理的离子方程式为_______。

【推荐3】稀有气体在一定条件下也能与某些物质反应，如：与在一定条件下可以形成、(两种化合物中F均显-1价)。现有标准状况下的、的混合气体1L，密度为10.26。
(1)计算混合气体的平均摩尔质量_________ (保留两位小数，下同)；
(2)分析并计算混合气体中的质量_________；
(3)氟化氙都是强氧化剂，如在水中都能将氧化成，并生成和。将上述标准状况下的混合气体1L通入含过量的溶液中，分析并计算能生成的物质的量_________。