1 . 镓(Ga)、锗(Ge)、硅(Si)、硒(Se)的单质及某些化合物如砷化镓、磷化镓等都是常用的半导体材料，应用于航空航天测控、光纤通讯等领域。回答下列问题：
(1)硒常用作光敏材料，基态硒原子的核外电子排布式为_______；与硒同周期的p区元素中第一电离能大于硒的元素有_______种；的空间构型是_______。
(2)水晶的主要成分是二氧化硅，在水晶中硅原子的配位数是_______。硅与氢结合能形成一系列的二元化合物等，与氯、溴结合能形成，上述四种物质沸点由高到低顺序为_______，丁硅烯中键与键个数之比为_______。
(3)GaN、GaP、GaAs都是原子晶体，熔点如表所示，分析其熔点变化的原因_______。

	GaN	GaP	GaAs
熔点	1700℃	1480℃	1238℃

(4)GaN晶胞结构如图甲所示。已知六棱柱底边边长为，阿伏加德罗常数的值为。从GaN晶体中分割出的平行六面体如图乙，该平行六面体的高为，GaN晶体的密度为_______(用表示)。

2 . 碳、硅及其化合物是一类重要物质。自然界的矿物．岩石的成因和变化受到许多条件的影响。地壳内每加深1km，压强增大约25000-3000kPa，在地壳内SiO₂和HF存在以下平衡：SiO₂(s)+4HF(g)SiF₄(g)+2H₂O(g)+148.9kJ
根据题意完成下列填空：
(1)在地壳深处容易有________气体逸出，SiO₂易在地壳________(填“深”、“浅”)处沉积。
(2)如果上述反应的平衡常数K值变大，该反应____________(选填编号)。
a．一定向正反应方向移动          b．在平衡移动时正反应速率先增大后减小
c．一定向逆反应方向移动          d．在平衡移动时逆反应速率先减小后增大
(3)如果上述反应在体积不变的密闭容器中发生，当反应达到平衡时，______(选填编号)。
a．2v_正(HF)=v_逆(H₂O) b．v(H₂O)=2v(SiF₄)
c．SO₂的质量保持不变          d．反应物不再转化为生成物
(4)若反应的容器容积为2.0L，反应时间80min，容器内气体的密度增大了0.12g/L，在这段时间内HF的平均反应速率为________。
(5)合成氮化碳是一种与金刚石类似的晶体，该晶体中微粒间的作用力是_______，预测氮化碳的硬度比金刚石的_________(选填“大”、“小”、“不确定”)。
(6)SiH₄是________(极性或非极性)分子，与CH₄相比，沸点高的是________(化学式)，用有关化学原理解释该事实：__________。