【推荐1】碳和硅是自然界中大量存在的元素，硅及其化合物是工业上最重要的材料。设N_A代表阿伏加德罗常数的值。粗硅的制备方法有两种：
方法一：
方法二：
(1)基态Si原子中存在_______对自旋状态相反的电子，基态Mg原子的最外层电子的电子云轮廓图是_______。
(2)上述2个反应中，涉及的所有元素中第一电离能最小的_______ (填元素符号)。
(3)C (金刚石)、晶体硅、CO三种晶体的熔点由高到低的顺序_______，其原因是_______。
(4)CO在配合物中可作为配体，在配合物中配位原子是_______(填元素符号)，1 mol该配合物中含有π键的数目是_______。
(5)SiO₂晶胞(如图1)可理解成将金刚石晶胞(如图2)中的C原子置换成Si原子，然后在Si—Si键中间插入O原子而形成。

①SiO₂晶胞中Si采取_______杂化，含有_______个O原子。
②SiO₂晶胞中假设金刚石晶胞的边长为a pm，试计算该晶胞的密度_______(写出表达式即可)

【推荐3】某油脂厂废弃的油脂加氢镍催化剂的主要成分为Ni，还含有一定量Al、Fe及氧化铁、少量其他不溶性物质，回收废镍催化剂制备硫酸镍晶体()的工艺流程如下：

已知：溶液中金属离子开始沉淀和完全沉淀的pH如下表所示：

金属离子
开始沉淀的pH()	2.2	7.5	7.2
沉淀完全的pH()	3.2	9.0	8.7

回答下列问题：
(1)下列状态的Ni微粒中，电离最外层一个电子所需能量最大的是_______(填标号)。

A．

B．

C．

D．

(2)“碱浸”中NaOH溶液的两个作用分别是_______。如图是“酸浸”时镍的浸出率与温度的关系，则酸浸时合适的浸出温度是_______℃。

(3)为回收金属，向“滤液①”中通入过量二氧化碳气体，反应的离子方程式为_______。
(4)“转化”步骤中反应的离子方程式是_____。“调pH”时，最适宜的pH范围是______。
(5)Ni可以形成多种多样的配合物。、是镍的两种配合物，这两种配合物都存在的作用力是_______(填标号)。
a.范德华力　   b.配位键 　 c.极性键　   d.离子键　   e.氢键 　 f.非极性键
(6)中阴离子的空间构型为_______。

【推荐1】钕铁硼磁铁是最常使用的稀土磁铁，被广泛应用于电子产品中。生产钕铁硼磁铁的主要原材料有稀土金属钕、纯铁、铝、硼以及其他物质。请回答下列问题：
(1)钕(Nd)为60号元素，在元素周期表中位于第____周期；基态Fe^2＋外围电子的轨道表达式为_____________。
(2)实验测得AlCl₃的实际存在形式为Al₂Cl₆，其分子的球棍模型如图所示。

①该分子中Al原子采取______杂化。
②Al₂Cl₆与过量NaOH溶液反应生成Na[Al(OH)₄]，[Al(OH)₄]^－中存在的化学键有____（填标号）。
A．离子键　　B．极性共价键　　C．金属键　　D．非极性共价键　　E．氢键
(3)FeO是离子晶体，其晶格能可通过如下的Born﹣Haber循环计算得到。

基态Fe原子的第一电离能为___kJ·mol^-1，FeO的晶格能为___kJ·mol^-1。
(4)因材料中含有大量的钕和铁，容易锈蚀是钕铁硼磁铁的一大弱点，可通过电镀镍(Ni)等进行表面涂层处理。已知Ni可以形成化合物四羰基镍［Ni(CO)₄］，其为无色易挥发剧毒液体，熔点为－25 ℃，沸点为43 ℃，不溶于水，易溶于乙醇、苯、四氯化碳等有机溶剂，四羰基镍的晶体类型是_______，写出与配体互为等电子体的分子和离子的化学式为_____、_____（各写一种）。
(5)已知立方BN晶体硬度很大，其原因是________；其晶胞结构如图所示，设晶胞中最近的B、N原子之间的距离为a nm，阿伏加 德罗常数的值为N_A，则晶体的密度为_____g·cm^-3（列式即可，用含a、N_A的代数式表示）。

【推荐2】镍铜合金是由60%镍、33%铜、7%铁三种金属组成的合金材料。镍铜合金有较好的室温力学性能和高温强度，耐蚀性强，耐磨性好，容易加工，可作为航空发动机的结构材料。根据所学知识，回答下列问题：
(1)Ni原子位于元素周期表中的__________区，基态Ni最高能层电子的电子云轮廓图为________形。与Ni同周期的过渡元素中，未成对电子数最多的基态原子的价电子排布图为__________。
(2)Cu与Fe的第二电离能分别为，，大于的主要原因是__________。
(3)已知Cu₂O的立方晶胞结构如图所示。

①已知a、b的坐标参数依次为、，则d的坐标参数为__________。
②晶胞边长为cpm，该晶体的密度为___________g·cm^-3。（列计算式，设为阿伏加德罗常数的数值）

【推荐3】回答下列问题：
(1)SiCl₄是生产高纯硅的前驱体，其中Si采取杂化类型为_______。SiCl₄可发生水解反应，机理如图：
      
含s、p、d轨道的杂化类型有：①dsp²、②sp³d、③sp³d²，中间体SiCl₄(H₂O)中Si采取的杂化类型为_________(填标号)，CO₂分子中存在_______个σ键和_______个π键。
(2)三价铬离子能形成多种配位化合物。[Cr(NH₃)₃(H₂O)₂Cl]²⁺中提供电子对形成配位键的原子是_______，中心离子的配位数为_______。
(3)[Cr(NH₃)₃(H₂O)₂Cl]²⁺中配体分子NH₃、H₂O以及分子PH₃的空间结构和相应的键角如图所示。
   
PH₃中P的杂化类型是_______，H₂O的键角小于NH₃的，分析原因_______。
(4)XeF₂晶体属四方晶系，晶胞参数如图所示，晶胞棱边夹角均为90°，该晶胞中有_______个XeF₂分子。以晶胞参数为单位长度建立的坐标系可以表示晶胞中各原子的位置，称为原子的分数坐标，如A点原子的分数坐标为(，，)。已知Xe－F键长为r pm，则B点原子的分数坐标为________；晶胞中A、B间距离d=________pm。