1 . 钼酸铋作为新型半导体光催化材料,广泛应用于生产生活中。以氧化铋渣(主要成分是Bi2O3、Sb2O3、还含有Fe2O3、ZnO、Ag2O和SiO2等杂质)为原料制备钼酸铋(Bi2MoO6,其中Mo为+6价)的工艺流程如下:
回答下列问题:
(1)基态S的价电子排布式为___________ 。
(2)“浸渣”的主要成分为___________ (填化学式)。
(3)①“除锑”过程中发生反应的化学方程式为___________ ;
②该过程需要加热的原因为___________ 。
(4)已知:硫代乙酰胺()在酸性溶液中会水解为乙酰胺()和硫化氢;H2S的Ka1=1.0×10-7,Ka2=1.0×10-13;Ksp(Bi2S3)=2.0×10-99。
①硫化氢会进一步发生反应2Bi3+(aq)+3HS-(aq)=Bi2S3(s)+3H+(aq),此时溶液中c(HS-):c(S2-)=________ 。
②H2S常温下为气体,而H2O常温下为液体的原因为___________ 。
(5)“酸溶”时会有NO逸出,此过程中氧化剂与还原剂的物质的量之比为___________ 。
(6)Bi2O3的立方晶胞结构如图所示(O占据部分Bi的四面体空隙),以A点为原点建立分数坐标,已知A点坐标为(0,0,0),B点坐标为(,,),则C点坐标为___________ 。晶胞边长为anm,则密度为___________ g·cm-3(Bi2O3的摩尔质量为Mr,阿伏加德罗常数为NA)
回答下列问题:
(1)基态S的价电子排布式为
(2)“浸渣”的主要成分为
(3)①“除锑”过程中发生反应的化学方程式为
②该过程需要加热的原因为
(4)已知:硫代乙酰胺()在酸性溶液中会水解为乙酰胺()和硫化氢;H2S的Ka1=1.0×10-7,Ka2=1.0×10-13;Ksp(Bi2S3)=2.0×10-99。
①硫化氢会进一步发生反应2Bi3+(aq)+3HS-(aq)=Bi2S3(s)+3H+(aq),此时溶液中c(HS-):c(S2-)=
②H2S常温下为气体,而H2O常温下为液体的原因为
(5)“酸溶”时会有NO逸出,此过程中氧化剂与还原剂的物质的量之比为
(6)Bi2O3的立方晶胞结构如图所示(O占据部分Bi的四面体空隙),以A点为原点建立分数坐标,已知A点坐标为(0,0,0),B点坐标为(,,),则C点坐标为
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