1 . 工业上可用粗硅(含有铁、铝、硼、磷等杂质)与干燥的HCl气体反应制SiHCl₃：Si+3HCl = SiHCl₃+H₂，SiHCl₃可与过量H₂在1000~1100°C反应制得纯硅。有关物质的物理常数见下表：

物质	SiCl4	BCl3	AlCl3	FeCl3	SiHCl3	PCl5
沸点/°C	57.7	12.8	——	315	33.0	——
熔点/°C	-70.0	-107.2	——	——	-126.5	——
升华温度/°C	——	——	180	300	——	162

请回答：
(1)粗硅与HCl反应完全后的混合物冷却到标准状况，可通过________操作提纯得到SiHCl₃。
(2)实验室也可以采用如右图装置(加热、夹持及尾气处理装置均略去)用SiHCl₃与过量干燥H₂反应制取纯硅。


①仪器a的名称为_______， 装置 B中的试剂为________。
②装置C为水浴加热，目的是________， 反应一段时间后，D中可以观察到晶体硅生成，同时生成一种气体产物，写出其化学式_______。
③为保证实验安全，加热D装置前必须完成的操作是_________。