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1 . 石墨烯是从石墨材料中剥离出来,由碳原子组成的只有一层原子厚度的二维晶体,其部分性能优于传统的硅材料,具有广泛的应用前景。
(1)石墨烯加氢完全制得的石墨烷可用表示。它的结构相当于在不破坏石墨烯独特的六边形晶格结构和单原子厚度的情况下,给每个碳原子上都增加了一个氢原子。下列有关石墨烷的叙述正确的是_______ (填字母)。
a.石墨烷属于烷烃 b.石墨烷难溶于水
c.石墨烷中所有碳原子共平面 d.石墨烷可以发生加成反应
(2)石墨晶体由层状石墨“分子”按ABAB…方式堆积而成,如图所示,层与层之间靠_______ 维系。图中用虚线标出了石墨的一个六方晶胞。1个六方石墨晶胞中碳原子的个数为_______ ,D处碳原子的分数坐标为,则E处碳原子的分数坐标为_______ (以晶胞参数为单位长度建立的坐标系可以表示晶胞中各原子的位置,各原子的位置称作原子的分数坐标)。(3)SiC的晶体结构与金刚石类似。SiC的晶体类型为_______ ,晶体中Si原子与键的数目之比为_______ 。
(4)与结构相似,分子的空间结构为________ ,但性质不同:前者不易与水反应,但后者与水剧烈反应,生成两种酸和一种气体单质,写出该反应的化学方程式:_______ 。
(1)石墨烯加氢完全制得的石墨烷可用表示。它的结构相当于在不破坏石墨烯独特的六边形晶格结构和单原子厚度的情况下,给每个碳原子上都增加了一个氢原子。下列有关石墨烷的叙述正确的是
a.石墨烷属于烷烃 b.石墨烷难溶于水
c.石墨烷中所有碳原子共平面 d.石墨烷可以发生加成反应
(2)石墨晶体由层状石墨“分子”按ABAB…方式堆积而成,如图所示,层与层之间靠
(4)与结构相似,分子的空间结构为
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2 . 锗是一种战略性金属,广泛应用于光学及电子工业领域。一种用锌浸渣(主要含、,另含少量ZnS、以及)提取Ge和的工艺流程如下:已知:①锗在硫酸中的存在形式:pH≤2.0时主要为,时主要为。
②常温下,,。
请回答下列问题:
(1)Ge是第四周期第ⅣA族元素,其基态原子的价层电子排布式为___________ 。
(2)“氧化酸浸”工序中,溶液,浸渣的主要成分为、S和___________ (填化学式);被双氧水氧化的离子方程式为___________ 。
(3)“中和沉淀”工序中,所加化合物A为___________ (填一种物质的化学式);调节溶液,Ge和Fe共沉淀,此时滤液中___________ 。
(4)①在水溶液中的溶解度曲线如图所示,则从滤液中回收的操作为蒸发浓缩、___________ 、洗涤、干燥。②用惰性电极电解溶液可制取金属锌,电解后的溶液可在上述流程中___________ 工序循环使用。
(5)“水解”工序中,水解生成的化学方程式为___________ ;的沸点(1200℃)远高于的沸点(84℃),其原因为___________ 。
(6)是一种可用于制作太阳电池的钙钛矿型材料,其立方晶胞如图所示,Cs与Br的最短距离比Ge与Br的最短距离大,则Ge在晶胞中的位置为___________ (填“体心”“面心”或“顶角”);晶体中一个Cs周围与其距离最近的Br的个数为___________ 。
②常温下,,。
请回答下列问题:
(1)Ge是第四周期第ⅣA族元素,其基态原子的价层电子排布式为
(2)“氧化酸浸”工序中,溶液,浸渣的主要成分为、S和
(3)“中和沉淀”工序中,所加化合物A为
(4)①在水溶液中的溶解度曲线如图所示,则从滤液中回收的操作为蒸发浓缩、
(5)“水解”工序中,水解生成的化学方程式为
(6)是一种可用于制作太阳电池的钙钛矿型材料,其立方晶胞如图所示,Cs与Br的最短距离比Ge与Br的最短距离大,则Ge在晶胞中的位置为
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解题方法
3 . 镓()是重要的稀有金属之一,主要应用于半导体行业。一种从砷化镓污泥(主要成分为)中回收镓的工艺流程如图所示:
已知:Ⅰ.是两性氢氧化物,既能溶于强酸又能溶于强碱;
Ⅱ.为灰白色固体,易溶于水,具有还原性。
回答下列问题:
(1)“浆化碱浸”过程中反应的离子方程式为________ ;“滤渣Ⅰ”的成分为______ (填化学式)。
(2)中和“调”沉镓和硅的过程中,保持约为6,若过低镓的回收率将降低,其原因是_______ 。
(3)“除硅”时,镓和硅在溶液中的含量如表所示,由表可知,“除硅”的调节至______ 范围内,沉淀效果最好;此过程中,加入絮凝剂的目的是_______ 。
(4)溶液经_________ 、______ 、抽滤、洗涤、干燥得晶体。
(5)用惰性电极电解得到电解尾液和,电解尾液可在______ (填操作单元名称)过程中循环使用,提高经济效益。
(6)可生成氮化镓等半导体材料,氮化镓晶胞结构如图,黑球代表,白球代表,晶胞参数为。
①氮化镓晶体中每个原子周围最近的原子的个数为_____ 。
②距离最近的两个原子之间的距离为_______ (用含的代数式表示)。
已知:Ⅰ.是两性氢氧化物,既能溶于强酸又能溶于强碱;
Ⅱ.为灰白色固体,易溶于水,具有还原性。
回答下列问题:
(1)“浆化碱浸”过程中反应的离子方程式为
(2)中和“调”沉镓和硅的过程中,保持约为6,若过低镓的回收率将降低,其原因是
(3)“除硅”时,镓和硅在溶液中的含量如表所示,由表可知,“除硅”的调节至
0.0 | 2500 | 1345 |
0.5 | 2456 | 1267 |
1.0 | 2438 | 81 |
1.5 | 2420 | 103 |
2.0 | 2200 | 804 |
2.5 | 1879 | 952 |
(4)溶液经
(5)用惰性电极电解得到电解尾液和,电解尾液可在
(6)可生成氮化镓等半导体材料,氮化镓晶胞结构如图,黑球代表,白球代表,晶胞参数为。
①氮化镓晶体中每个原子周围最近的原子的个数为
②距离最近的两个原子之间的距离为
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解题方法
4 . AlN具有耐高温、抗冲击等优良品质,广泛应用于电子工业、陶瓷工业,其晶胞结构如下图所示。下列说法错误的是
A.基态Al原子的价电子排布式为 | B.Al原子位于N原子形成的四面体空隙 |
C.AlN晶体中含有配位键 | D.AlN晶体属于离子晶体 |
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2022-11-30更新
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564次组卷
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2卷引用:广东省深圳市龙岗区2022-2023学年高三上学期期中考试化学试题