1 . 以炔烃为原料经下列反应可制备烯烃

(1)化合物1与反应经历如下过程生成5，其中2、3为中间体。画出1~4的结构式_______，并解释Z-型烯烃为主要产物的原因_______。

(2)画出下列反应中6~11的结构式_______。

i.
ii.
iii.

2 . 酸碱性与结构
(1)请按酸性从强到弱给以下化合物排序：_______。

(2)请分别按碱性从强到弱给下列两组化合物排序：_______。
①
②

3 . 光刻胶
化合物E是一种负型光致抗蚀剂(又称光刻胶)，大量用于印刷制版和电子工业的光刻技术中。其合成方法如下：

(1)用结构简式表示A，B，C，D的结构_______、_______、_______、_______。
(2)光刻制版时，光刻胶E在紫外光照射下生成F，溶解度下降。不见光的部分不反应，用溶剂溶解后得到影像。画出F的结构简式_______。

4 . 过渡金属配合物
(1)1966年首次报道了第一个四面体环戊二烯第一过渡金属羰基簇铁的化合物，，为深绿色固体；该簇合物具有对称结构且符合18电子规则，红外光谱表明CO的振动频率特别的低，位于。
①指出中心原子符合18电子规则的电子来源_______。
②指出中心原子的杂化轨道_______。
③写出该分子的配位化学式并画出该分子的空间结构_______。
(2)直到1979年才合成出第二个第一过渡金属的衍生物，为黑色固体。
①比较和的稳定性_______。
②推测空间结构是否与相同，给出理由_______。

5 . 某地出产的矿石A可看作由主要成分硅酸铜盐X·7H₂O (摩尔质量=406 g·mol^-1 )与含氧酸盐杂质Y共同组成，X、Y均含三种元素，工业上利用下列流程制备铜盐，在溶液I和II中滴入KSCN溶液，前者无现象，后者显血红色。所有数据均已折算为标准状况。

请回答：
(1)写出Y中除氧以外的元素符号_________，X的化学式为________。
(2)如果往溶液II中继续加入H₂O₂，发现有气泡产生，有观点认为是Y中的某元素离子将H₂O₂氧化所致，写出反应的离子方程式________； 加足量H₂O₂后对溶液II进行分离，可得到该元素的氧化物Z 4.0g，写出杂质Y与盐酸反应的化学方程式________。
(3)将Z与KNO₃、KOH共熔，可制得一种绿色环保的高效净水剂M，同时生成KNO₂和H₂O。写出该反应的化学方程式________。
(4)通过完全电解上述流程所得的54.0 g CuCl₂ (熔融状态)制备Cu，但还原产物也可能是Cu₂O，试设计实验证明还原产物的组成__________。

6 . 高钴酸钠是钴元素目前发现的最高价化合物，实验室可通过电解硫酸钠与氯化钴的混合溶液获得氧化亚钴(CoO)，并通过一系列反应来制备高钴酸钠，相关化学方程式如下：
CoCl₂+H₂OCoO↓+H₂↑+Cl₂↑；
CoO+O₂ → Co₃O₄ (未配平)
Co₃O₄+Na₂O+O₂→Na₃CoO₄ (未配平)
请计算：
(1)以氯化钴为原料制备1.920 g的高钴酸钠，消耗标准状况下氧气的体积为______mL。
(2)若电解过程转移电子共0.100 mol，两极收集到气体标准状况下总体积2.016 L (不考虑气体的溶解)，则可制得高钴酸钠的质量为________ (计算结果并写出计算过程)。

7 . 请回答下列问题。
(1)金属铝的卤化物熔点如下表：

化学式	AlF3	AlCl3	AlBr3	AlI3
熔点/°C	1290	180	97.5	188

请画出其中不属于分子晶体的卤化铝的电子式_______，加热分解某种铵盐X，可以1：3的物质的量比获得该卤化铝与一种离子化合物Y，Y的阳离子与阴离子具有相同的核外电子数，写出X的化学式_______。
(2)广义氢键理论认为除了与N、O、F原子形成氢键外，H原子还可以与很多带部分负电荷的原子形成氢键，请用广义氢键理论解释氮硼烷(H₃N-BH₃) 的沸点比乙烷(H₃C-CH₃)高285°C的原因________。