氢氟酸是芯片加工的重要试剂,常见制备反应为:。已知溶液显酸性,下列有关说法不正确的是
A.溶液中微粒浓度大小顺序: |
B.的空间构型为正四面体形 |
C.已知CaF2晶胞中每个Ca2+被8个F-包围,则F-的配位数是4 |
D.芯片加工时用氢氟酸除去硅表面的氧化物,是利用了氢氟酸的强酸性 |
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更新时间:2021-03-26 08:53:59
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单选题
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适中
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【推荐1】下列有关物质的用途与化学原理具有对应关系的是
选项 | 用途 | 化学原理 |
A | 用氢氟酸雕刻玻璃 | 氢氟酸显弱酸性 |
B | 用FeCl3溶液蚀刻印刷电路板 | FeCl3溶液显酸性 |
C | 用SiO2制造坩埚 | SiO2熔点高 |
D | 用HNO3制备硝酸铵 | HNO3具有强氧化性 |
A.A | B.B | C.C | D.D |
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单选题
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名校
【推荐2】下列“类比”合理的是
已知事实 | 类比得出 | |
A | 浓盐酸与过量反应会有盐酸剩余 | 浓硫酸与过量铜反应也会有硫酸剩余 |
B | 与溶液不反应 | 与溶液也不反应 |
C | 氢氟酸是弱酸,可以溶解 | 高氯酸是强酸,也可以溶解 |
D | 可以用浓硫酸干燥 | 也可用浓硫酸干燥 |
A.A | B.B | C.C | D.D |
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单选题
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适中
(0.65)
解题方法
【推荐1】某温度时,将n mol•L﹣1氨水滴入20 mL1.0 mol•L﹣1盐酸中,忽略溶液混合时的体积变化,溶液pH和温度随加入氨水体积变化的曲线如图所示。下列有关说法正确的是( )
A.a点:Kw=1.0×10﹣14 |
B.b点:c(NH)>c(Cl-)>c(H+)>c(OH-) |
C.25℃NH4Cl水解常数为(n﹣1)×10-6 |
D.b点水的电离程度最大 |
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单选题
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适中
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【推荐2】电解质溶液有许多奇妙之处,下列关于电解质溶液的叙述中正确的是
A.常温下c(OH-)=1×10-2的 氢氧化钠溶液和c(H+)=1×10-2 醋酸溶液等体积混合后,所得混合液中:c(CH3COO-)=c (Na+) |
B.c(NH4+)浓度相等的下列溶液①NH4Cl②NH4HSO4③(NH4)2SO4④(NH4)2CO3⑤(NH4)2Fe(SO4)2它们的物质的量浓度由大到小的顺序为①>②>④>③>⑤ |
C.常温下,某溶液中由水电离出的c(H+)=10-5mol/L,则此溶液可能是盐酸 |
D.等物质的量浓度的Na2CO3、NaHCO3的混合溶液中c(CO32-)>c(HCO3-) |
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(0.65)
解题方法
【推荐3】电解质溶液有许多奇妙之处,只有深入思考,才能体会到它的乐趣。常温时,关于下列溶液的叙述正确的是
A.0.1mol·L-1NaHSO3溶液pH<7,则溶液中c(H2SO3)>c(SO) |
B.浓度相同的①NH4Cl、②CH3COONH4、③NH4HSO4三种溶液中的c(NH):①>③>② |
C.将相同物质的量浓度的氨水与盐酸等体积混合,所得溶液中的离子浓度关系:c(Cl-)>c(NH)>c(H+)>c(OH-) |
D.将amol·L-1CH3COOH溶液与bmol·L-1NaOH溶液等体积混合,测得溶液pH为7,则a与b的关系:a<b |
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单选题
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适中
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【推荐1】氟是已知元素中电负性最大、单质氧化性最强的元素,与稀有气体形成的分子是非极性分子,与其他卤素形成的卤素互化物(如)具有与相似的化学性质,与氮形成的可与反应生成(结构式:)。自然界中,含氯矿石有萤石、冰晶石等,萤石可与浓硫酸共热制取气体。工业上,可通过电解的无水溶液(含和离子)制取。下列有关说法正确的
A.的空间结构为Ⅴ形 | B.与互为同素异形体 |
C.键角: | D.存在顺反异构现象 |
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名校
解题方法
【推荐2】将少量硫酸铜溶液滴入氨基乙酸钠溶液()中即可得到结构如图所示的产物。下列叙述错误的是
A.氨基乙酸钠中的氮原子采取杂化 |
B.中含有个键 |
C.产物中原子VSEPR模型均为四面体形结构 |
D.该反应产物为配合物,只有内界而无外界 |
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【推荐1】下列说法正确的是
A.金刚石中碳原子杂化类型为sp2 |
B.12g石墨中含有2NA个六元环 |
C.SiO2晶体中最小环为6元环 |
D.CaF2晶体是离子晶体,阴阳离子配位数之比为1:2 |
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(0.65)
【推荐2】下列说法正确的是
A.(过氧化钡)固体中的阴离子和阳离子之比为2∶1 |
B.在SiO2晶体中,1个Si原子和2个O原子形成2个共价键 |
C.HCl的相对分子质量大于HF,所以HCl的沸点高于HF |
D.由ⅠA族和ⅥA族元素可形成原子个数比为1∶1、电子总数为38的化合物 |
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