组卷网 > 高中化学综合库 > 物质结构与性质 > 原子结构与性质 > 基态原子核外电子排布的表示 > 核外电子排布的表示形式 > 电子排布式
题型:解答题-工业流程题 难度:0.4 引用次数:315 题号:21892266
我国科学家用粗氢氧化高钴制备硫酸钴晶体(),其工艺流程如下:

已知:ⅰ.还原浸出液中的阳离子有:
ⅱ.部分物质的溶度积常数(25℃)        
ⅲ.溶解度随温度升高而明显增大
(1)Co元素位于元素周期表的_______区,基态Co原子的核外电子排布式为_______
(2)浸出时,理论上还原性离子和氧化性离子物质的量比为_______
(3)写出“氧化沉铁”的离子方程式_______,25℃时,浊液中铁离子浓度为,此时溶液_______
(4)结合平衡移动原理解释“氟化沉钙”步骤加入过量NaF的原因_______
(5)用滴定法测定硫酸钴晶体中的钴含量,其原理和操作如下。
在溶液中,用铁氯化钾将Co(Ⅱ)氧化为Co(Ⅲ),过量的铁氰化钾以Co(Ⅱ)标准液返滴定。反应的方程式为:
已知:铁氰化钾标准液浓度为,Co(Ⅱ)标准液质量浓度为。取1.000g硫酸钴晶体,加水配成200mL溶液,取10mL待测液进行滴定,消耗铁氰化钾标准液、 Co(Ⅱ)标准液。
计算样品中钴含量_______(以钴的质量分数计)。
(6)Fe与S形成的一种化合物晶体的晶胞结构及其纵向投影如图所示,该物质的化学式为_______。已知:晶体密度为,阿伏加德罗常数的值为,晶胞六棱柱底面边长为,则该晶胞的高_______(列出计算式)。
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