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1 . 硫酸与Cl2反应的生成物的结构如图所示。有关说法不正确的是
A.氯磺酸钠NaSO3Cl与水反应:NaSO3Cl+H2O=Na++OH-+HSO3Cl- |
B.硫酰二氯与水反应的离子方程式:SO2Cl2+6H2O=4H3O+++2Cl- |
C.氯磺酸与BaCl2溶液反应的化学方程式:HSO3Cl+BaCl2+H2O=BaSO4↓+3HCl |
D.硫酰二氯可脱去金属氯化物中的水:MgCl2·6H2O+3SO2Cl2=MgCl2+3H2SO4+6HCl |
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解题方法
2 . 1994年度诺贝尔化学奖授予为研究臭氧做出特殊贡献的化学家。O3能吸收有害紫外线,保护人类赖以生存的空间。O3分子的结构如图,呈V形,键角116.5o,与SO2近似,三个原子以一个O原子为中心,与另外两个O原子分别构成一个极性共价键;中间O原子提供2个电子,旁边两个O原子各提供1个电子,构成一个大π键——三个O原子均等地享有这4个电子。在1.01×105Pa,273K时,O3在催化剂作用下能迅速转化为O2,当生成该状态下22.4L O2时,转移电子数的物质的量为
A.1 mol | B. mol | C.0 mol | D. mol |
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3 . S8与NH3在无水条件下反应,得到一种二元化合物A,元素分析可知,A中含S元素69.60%。A进行如下反应:A、B、C、D的分子量范围在150~190之间,各元素含量都是质量分数。试回答下列各问题:
(1)A、B、C、D的化学式分别为___________ 、___________ 、___________ 、___________ 。
(2)A与SnCl2的乙醇溶液反应除生成B外,还生成一种含Sn(IV)化合物,试写出A→B的化学方程式___________ 。
(3)D与一种无色液体(该液体是由常见的红棕色气体在加压下形成的)互为等电子体,但D与无色液体的几何构型完全不同,为环状结构,试画出D的最稳定的Lewis结构式___________ ,理由是___________ ,该Lewis结构式中,S原子的电子构型是___________ 。
(1)A、B、C、D的化学式分别为
(2)A与SnCl2的乙醇溶液反应除生成B外,还生成一种含Sn(IV)化合物,试写出A→B的化学方程式
(3)D与一种无色液体(该液体是由常见的红棕色气体在加压下形成的)互为等电子体,但D与无色液体的几何构型完全不同,为环状结构,试画出D的最稳定的Lewis结构式
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4 . 复盐的组成
在NH4Cl-CuCl-H2O体系中,结晶出一种淡蓝色的物质A,其组成可表示为xNH4Cl·CuCl2·yH2O。称取1.4026g晶体A,溶于水并在250mL容量瓶中定容。Cl-分析:移取25.00mL溶液,加入2滴0.5%荧光黄的乙醇溶液和一滴稀NaOH溶液,再加2mL0.5%淀粉溶液,用0.1036molL-1AgNO3溶液滴定(反应1),至出现粉红色,消耗19.52mL:Cu2+分析:移取25.00mL溶液,加入1molL-1H2SO4溶液5mL,再加固体KI1.5g,混匀并放置(反应2),用0.02864molL-1Na2S2O3溶液滴定(反应3),至棕色较浅时加入2mL0.5%淀粉溶液,继续滴至蓝紫色恰好消失,消耗17.65mL。
(1)写出反应1-3的方程式_____ 。
(2)通过计算确定A中x和y的值。(NH4Cl式量53.49,CuCl2式量134.5)_____ 。
在NH4Cl-CuCl-H2O体系中,结晶出一种淡蓝色的物质A,其组成可表示为xNH4Cl·CuCl2·yH2O。称取1.4026g晶体A,溶于水并在250mL容量瓶中定容。Cl-分析:移取25.00mL溶液,加入2滴0.5%荧光黄的乙醇溶液和一滴稀NaOH溶液,再加2mL0.5%淀粉溶液,用0.1036molL-1AgNO3溶液滴定(反应1),至出现粉红色,消耗19.52mL:Cu2+分析:移取25.00mL溶液,加入1molL-1H2SO4溶液5mL,再加固体KI1.5g,混匀并放置(反应2),用0.02864molL-1Na2S2O3溶液滴定(反应3),至棕色较浅时加入2mL0.5%淀粉溶液,继续滴至蓝紫色恰好消失,消耗17.65mL。
(1)写出反应1-3的方程式
(2)通过计算确定A中x和y的值。(NH4Cl式量53.49,CuCl2式量134.5)
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5 . 镓的化合物
(1)半导体工业中通过刻蚀制造微纳结构,GaN是重要的半导体材料,通常采用含氯气体在放电条件下进行刻蚀。写出利用Ar-Cl2混合气体放电刻蚀GaN的化学方程式_____ 。
(2)金属镓熔点很低但沸点很高其中存在二聚体Ga.1990年,科学家将液态Ga和l2在甲苯中超声处理,得到了组成为Gal的物质。该物质中含有多种不同氧化态的Ga,具有两种可能的结构,分子式分别为Ga4I4(A)和Ga6I6(B),二者对应的阴离子分别为C和D,两种阴离子均由Ga和I构成且其中所有原子的价层均满足8电子。写出示出A和B组成特点的结构笱式并标出Ga的氧化态_____ ,画出C和D的结构_____ 。
(3)GaI常用于合成低价Ga的化合物。将GaI与Ar’Li(Ar’基如图所示,解答中直接采用简写Ar’)在-78℃的甲苯溶液中反应,得到晶体E,E中含有2个Ga原子:E在乙醚溶液中与金属钠反应得到晶体F,X射线晶体学表明,F中的Ga-Ga键长比E中短0.028nm。关于F中Ga-Ga的键级历史上曾有过争议,其中一种观点认为,F中的Ca价层满足8电子。基于该观点,画出E和F的结构式_____ 。
(1)半导体工业中通过刻蚀制造微纳结构,GaN是重要的半导体材料,通常采用含氯气体在放电条件下进行刻蚀。写出利用Ar-Cl2混合气体放电刻蚀GaN的化学方程式
(2)金属镓熔点很低但沸点很高其中存在二聚体Ga.1990年,科学家将液态Ga和l2在甲苯中超声处理,得到了组成为Gal的物质。该物质中含有多种不同氧化态的Ga,具有两种可能的结构,分子式分别为Ga4I4(A)和Ga6I6(B),二者对应的阴离子分别为C和D,两种阴离子均由Ga和I构成且其中所有原子的价层均满足8电子。写出示出A和B组成特点的结构笱式并标出Ga的氧化态
(3)GaI常用于合成低价Ga的化合物。将GaI与Ar’Li(Ar’基如图所示,解答中直接采用简写Ar’)在-78℃的甲苯溶液中反应,得到晶体E,E中含有2个Ga原子:E在乙醚溶液中与金属钠反应得到晶体F,X射线晶体学表明,F中的Ga-Ga键长比E中短0.028nm。关于F中Ga-Ga的键级历史上曾有过争议,其中一种观点认为,F中的Ca价层满足8电子。基于该观点,画出E和F的结构式
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2023-09-07更新
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297次组卷
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2卷引用:2023年第37届中国化学奥林匹克(初赛)化学试题
6 . 有机化学中的氧化还原反应是一门艺术,如何选择温和的氧化剂,在提高反应效率的同时,不破坏底物分子的结构,是科学家们不断追求的目标。DMP(Dess-Martin periodinane)是现代有机合成中应用最为广泛的、温和型和高选择性氧化剂之一,它的分子结构和氧化机理如图所示,下列有关说法错误的是
A.DMP是一种高价碘氧化剂 | B.氧化过程中,Ⅰ的化合价降低1 |
C.反应产生了醋酸根离子 | D.还原产物中的Ⅰ满足8隅律 |
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7 . nesteretal A是一种从某菌体中提取出来的笼状聚半缩酮,在2021年,化学家Yuichiro Kawamoto等人提出了nesteretal A的一种全合成路线。下面展示了该全合成路线的部分反应。
(1)已知IBX是一种氧化剂,可以将醇氧化为酮;环氧乙烷在酸性水溶液中会水解为乙二醇。请画出A、C的键线式______ 、______ 。
(2)根据前后反应,写出MOMCl的键线式______ ,并说明A到B的反应类型______ 。
(3)加入反应物的目的是什么______ ?
(4)试画出D到E的第一步反应产物的键线式______ 。(不要求立体构型)
(5)请写出nesteretal A的分子式_______ 。
(1)已知IBX是一种氧化剂,可以将醇氧化为酮;环氧乙烷在酸性水溶液中会水解为乙二醇。请画出A、C的键线式
(2)根据前后反应,写出MOMCl的键线式
(3)加入反应物的目的是什么
(4)试画出D到E的第一步反应产物的键线式
(5)请写出nesteretal A的分子式
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解题方法
8 . 在温度为300K,压力为750mmHg的条件下有1.5L He和另一种气体的混合物,质量共5.0g。另一种气体在270K下即凝固。若在15K下气体混合物的压力为8mmHg(在相同体积下),则另一种气体的相对分子质量是
A.103.8 | B.4.0 | C.495 | D.82.24 |
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9 . 金属钛(Ti)在航空航天、医疗器械等工业领域有着重要用途,目前生产钛的方法之一是将金红石()转化为,再进一步还原得到钛。
直接氯化:
反应Ⅰ:
碳氯化:
反应Ⅱ:
反应Ⅲ:
(1)直接氯化可以在___________ 下自发进行。
(2)反应Ⅳ的为___________
(3)科学家对以上反应做过热重分析,温度为1223K、氯气分压的条件下,得到固体相对质量变化与时间的关系如下图所示:
①用纯碳实验时,质量稍微有所增长,生成了含___________ 键的物质。
②用纯实验时,所发生的化学方程式为___________ ;该反应的活化能___________ (填“高”或“低”)。
③按照混合,实验发现1.1min内质量迅速减少,经光谱分析证明有光气()生成,固体中含有C和,则x=___________ 。
④1.1min之后,光气()继续反应,有理论认为机理如下:
决速步骤的反应方程式为___________ ,1.1min之后发生的总反应方程式为___________ 。
(4)按照混合,平衡状态下不同物质的组成比与温度的关系如下图所示:
①曲线Q是___________ (填化学式)的变化图像。
②M点所发生的化学方程式是___________ 。
直接氯化:
反应Ⅰ:
碳氯化:
反应Ⅱ:
反应Ⅲ:
(1)直接氯化可以在
(2)反应Ⅳ的为
(3)科学家对以上反应做过热重分析,温度为1223K、氯气分压的条件下,得到固体相对质量变化与时间的关系如下图所示:
①用纯碳实验时,质量稍微有所增长,生成了含
②用纯实验时,所发生的化学方程式为
③按照混合,实验发现1.1min内质量迅速减少,经光谱分析证明有光气()生成,固体中含有C和,则x=
④1.1min之后,光气()继续反应,有理论认为机理如下:
决速步骤的反应方程式为
(4)按照混合,平衡状态下不同物质的组成比与温度的关系如下图所示:
①曲线Q是
②M点所发生的化学方程式是
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解题方法
10 . 第三代半导体材料氮化镓(GaN)有多种制备方法:
方法Ⅰ:
方法Ⅱ:
方法Ⅲ:
(1)基态的核外电子排布式为___________ 。
(2)氨气、甲烷中心原子的杂化方式是___________ ,分子构型分别为___________ 、___________ 。氨气熔沸点高于甲烷,是因为固体、液态氨气分子中存在氢键。在固体氨中每个氨气分子与6个氨气形成氢键,请画出其氢键___________ 。
(3)方法Ⅰ比方法Ⅱ温度高的主要原因是(从结构上解释)___________ 。
(4)方法Ⅲ中,通电氮气流中存在N、、活化粒子,常温下就能与液体镓反应(如图所示)。、电子式分别为___________ 、___________ ,1mol完全反应得到___________ mol。
(5)对高温GaN熔液慢速降温,至2950K时形成结晶。科学家展示了从中截取厚度为1.5个原子厚度的微观结构截面图(如下所示):
区域1、区域2分别为氮化镓___________ 、___________ (填“结构A”或“结构B”)的结构。
方法Ⅰ:
方法Ⅱ:
方法Ⅲ:
(1)基态的核外电子排布式为
(2)氨气、甲烷中心原子的杂化方式是
(3)方法Ⅰ比方法Ⅱ温度高的主要原因是(从结构上解释)
(4)方法Ⅲ中,通电氮气流中存在N、、活化粒子,常温下就能与液体镓反应(如图所示)。、电子式分别为
(5)对高温GaN熔液慢速降温,至2950K时形成结晶。科学家展示了从中截取厚度为1.5个原子厚度的微观结构截面图(如下所示):
区域1、区域2分别为氮化镓
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