3 . 电子工业常用FeCl₃溶液腐蚀印刷电路板上不需要的铜箔，最后得到含FeCl₃、FeCl₂杂质的CuCl₂溶液。某化学兴趣小组设计下列方案，从该废液中 除去FeCl₃、FeCl₂杂质，制取纯净的CuCl_2。
   
请回答下列问题：
(1)在①步操作中使用了氧化剂，下列氧化剂中一定不能使用的是_______。
A.Cl₂　　B.NaClO　　C.H₂O₂D.KMnO₄　　E.O₃
(2)②步操作中的“沉淀剂”可以是下列中的_______。
A.NaOH　　B.NH₃·H₂O 　　C.CuO　　D.Cu₂(OH)₂CO₃　　E.Fe₂O₃
用一种你选择的沉淀剂，分步写出除去杂质的离子方程式：_______。
(3)最后将滤液在HCl气流中蒸干，其目的是_______，如果将滤液直接加热蒸干，最后得到的固体可能是_______。
(4)设常温下各沉淀的溶度积近似为：K_sp[Cu(OH)₂]=10^-20、K_sp[Fe(OH)₃]=10^-38、K_sp[Fe(OH)₂]=10^-16；通常，人们把浓度小于10^-5mol/L的离子视为“不存在”。根据所给条件，完成下列问题：
①如果该废液中CuCl₂的浓度为1 mol/L，在加沉淀剂时应调节溶液的pH值范围为：_______。
②如果对废液不先用氧化剂，而是直接加入沉淀剂，带来的后果是：_______。

5 . 重钢集团含钛高炉渣(主要成分为，还含有少量)可以用于生产，其工艺流程有如下两种：
流程Ⅰ：

已知：a．难溶于水，能溶于强酸；难溶于水，具有两性，溶于草酸生成；
b．相关离子[]形成氢氧化物沉淀的范围如下表：

离子
开始沉淀的	0.5	6.3	1.5
完全沉淀的	2.5	8.3	2.8

(1)“浸渣”的成分主要是_______。
(2)“酸浸”后以形式存在，该反应的离子方程式为_______。
(3)“还原”的最终目的是_______。
(4)“混合反应”时，试剂添加顺序合理的是_______(填序号)。
A．先加入过量溶液，再加入适量溶液
B．先加入过量溶液，再加入适量溶液
C．先按混合后，再加入反应体系中
流程Ⅱ：

(5)实验测得，粗的纯度为，其中含、杂质，煅烧后，最终产品的产率和纯度(仅含微量杂质)均明显提高。试回答下列问题：
①用化学方程式解释“800℃煅烧”时产率提高的原因：_______。
②最终产品的纯度为_______%(保留1位小数)。
(6)流程Ⅰ_______(填“优于”或“劣于”)流程Ⅱ，理由是_______。

6 . 下列实验操作能达到对应目的的是

选项	实验操作	实验目的
A	将通入漂白粉溶液中	证明的酸性强于
B	向混合溶液加入氢氧化钠，反应后静置、分液	除去溴苯中混有的
C	向溶液中滴加酸性高锰酸钾溶液	证明的氧化性强于
D	将表面打磨过的铝片迅速投入正在沸腾的水中	验证是否和沸水发生反应

A．A

B．B

C．C

D．D

7 . 海水资源开发利用的部分过程如图所示。

(1)向苦卤中通入Cl₂制备溴的离子方程式为：___________。
(2)从MgCl₂制取金属Mg，工业上常用___________方法。
(3)粗盐中含的杂质离子有Ca²⁺、Mg²⁺、SO，提纯过程中加入试剂的顺序不正确的是___________
A．NaOH、BaCl₂、Na₂CO₃、盐酸            B．BaCl₂、NaOH、Na₂CO₃、盐酸
C．Na₂CO₃、BaCl₂、NaOH、盐酸            D．Ba(OH)₂、Na₂CO₃、盐酸
实验过程中，验证SO已完全沉淀的简单操作及现象是___________。
(4)加入Na₂CO₃溶液时发生的离子方程式为___________。
(5)从除杂后的氯化钠溶液中获得NaCl固体需要的仪器有铁架台(带铁圈)、酒精灯和___________。