名校
解题方法
1 . 铈(Ce)的氧化物在半导体材料、高级颜料及汽车尾气的净化器方面有广泛应用。以氟碳铈矿(含、、等)为原料制备的工艺流程如图:回答下列问题:
(1)中氟元素对应的氟原子激发态的电子排布式有_______ (填序号)。
a. b. c. d.
(2)中非金属元素的第一电离能从小到大依次为_______ 。
(3)“氧化焙烧”后,元素转化为和。写出“氧化焙烧”时发生的化学反应方程式:_______ 。
(4)实验室进行操作①所需的玻璃仪器有_______ 。
(5)“系列操作”包含下图几个过程:已知:不能溶于有机物;能溶于有机物,且存在反应。“滤液A”中加入有机物后的分离方法是_______ 。
(6)已知25℃时,“调pH”时,要使沉淀完全(通常认为溶液中离子浓度小于为沉淀完全),应控制大于_______ 。
(7)立方晶胞结构如图所示。在该晶体中,铈离子的配位数为_______ 。
(1)中氟元素对应的氟原子激发态的电子排布式有
a. b. c. d.
(2)中非金属元素的第一电离能从小到大依次为
(3)“氧化焙烧”后,元素转化为和。写出“氧化焙烧”时发生的化学反应方程式:
(4)实验室进行操作①所需的玻璃仪器有
(5)“系列操作”包含下图几个过程:已知:不能溶于有机物;能溶于有机物,且存在反应。“滤液A”中加入有机物后的分离方法是
(6)已知25℃时,“调pH”时,要使沉淀完全(通常认为溶液中离子浓度小于为沉淀完全),应控制大于
(7)立方晶胞结构如图所示。在该晶体中,铈离子的配位数为
您最近一年使用:0次
名校
2 . 某废旧金属材料中主要含、、、、、、和可燃性有机物,现利用下列工艺流程回收部分金属及金属化合物:已知:绿矾为。
回答下列问题:
(1)“焙烧”的目的是将金属单质转化为氧化物,并除去_______ 。
(2)的电子式为_________ ,“碱浸”时发生反应的离子方程式为______ 。
(3)“操作Ⅰ”的名称为________ 。
(4)试剂a为_______ (填化学式),加入试剂a后可能发生的反应为______ (写出其中1个反应的离子方程式即可)。
(5)滤液Ⅱ中可能含有因氧气的作用而产生的少量______ (填离子符号),检验该离子的操作是______ 。
回答下列问题:
(1)“焙烧”的目的是将金属单质转化为氧化物,并除去
(2)的电子式为
(3)“操作Ⅰ”的名称为
(4)试剂a为
(5)滤液Ⅱ中可能含有因氧气的作用而产生的少量
您最近一年使用:0次
3 . 碘、水吸收,具体流程如图所示。(已知:HI易挥发)(1)在分离器中,分离和HI的方法为___________。
(2)该流程总反应的化学方程式为___________ 。
(3)请评价该流程的优点___________ (任写两点)。
A.过滤 | B.蒸馏 | C.结晶 | D.渗析 |
(2)该流程总反应的化学方程式为
(3)请评价该流程的优点
您最近一年使用:0次
名校
4 . 食盐不但是人类生活中不可缺少的物质,而且是重要的化工原料。用化学沉淀法去除粗盐中的杂质离子所需的实验操作如下:
①加入稍过量的溶液 ②加入稍过量的溶液 ③加入稍过量的溶液
④加入稀盐酸直至无气泡产生 ⑤过滤
下列有关说法正确的是
①加入稍过量的溶液 ②加入稍过量的溶液 ③加入稍过量的溶液
④加入稀盐酸直至无气泡产生 ⑤过滤
下列有关说法正确的是
A.操作顺序可为③①④②⑤ |
B.加入溶液后,只发生一个离子反应 |
C.将除杂后的滤液倒入表面血中加热得到固体 |
D.除杂过程中,稀盐酸的作用是除去多余的并调节滤液至呈中性或微酸性 |
您最近一年使用:0次
名校
5 . 海水提溴的主要工业生产流程如下图所示。1.吹出塔中通入热空气吹出,利用了的___________ ,吸收塔中吸收,利用了的___________ 。
2.吸收塔中反应的离子方程式是___________ 。
2.吸收塔中反应的离子方程式是
您最近一年使用:0次
解题方法
6 . 某工厂的固体废渣中主要含和,还含有少量和。
利用该固体废渣制取的部分工艺流程如图所示:已知:①属于碱性氧化物;在酸性溶液中不稳定,会转变为和。
②是酸性氧化物,难于水和酸。
(1)若中和时加入的恰好完全反应,则过滤后所得废渣的成分为________ 。
(2)与稀硝酸反应时,硝酸体现出的性质:________ 。
(3)酸溶时,反应温度不宜超过,其主要原因是________ 。
(4)写出与稀硝酸反应的离子方程式:________ 。
(5)已知:的溶解度曲线如图所示以某工业废水(含)为原料,制取晶体的操作流程如下:
先向工业废水中加入溶液,充分反应后,过滤,洗涤;向滤渣中加入稀硝酸至固体完全溶解,_________ ,_________ ,(填操作名称)过滤,洗涤,干燥,即制得晶体。
利用该固体废渣制取的部分工艺流程如图所示:已知:①属于碱性氧化物;在酸性溶液中不稳定,会转变为和。
②是酸性氧化物,难于水和酸。
(1)若中和时加入的恰好完全反应,则过滤后所得废渣的成分为
(2)与稀硝酸反应时,硝酸体现出的性质:
(3)酸溶时,反应温度不宜超过,其主要原因是
(4)写出与稀硝酸反应的离子方程式:
(5)已知:的溶解度曲线如图所示以某工业废水(含)为原料,制取晶体的操作流程如下:
先向工业废水中加入溶液,充分反应后,过滤,洗涤;向滤渣中加入稀硝酸至固体完全溶解,
您最近一年使用:0次
解题方法
7 . 下列分离或除杂所用试剂和方法正确的是
A.分离溶于水中的碘(乙醇、萃取) |
B.除去苯中混有苯酚(NaOH溶液、过滤) |
C.制无水乙醇(CaO、蒸馏) |
D.除去乙酸乙酯中的乙酸(NaOH、蒸馏) |
您最近一年使用:0次
名校
解题方法
8 . 工业上用硫化镍矿(主要成分为NiS,含有ZnS、CuS、FeS等杂质)制备的工艺流程如下:(1)将硫化镍矿粉碎的目的是___________ ,煅烧NiS生成NiO和的化学方程式为___________ 。
(2)向滤液Ⅰ中加入FeS是为了生成难溶于水的硫化物沉淀而除去、等杂质,则除去的离子方程式为,该反应的化学平衡常数为___________ (已知,,)。
(3)向滤液Ⅱ中加入H2O2的目的是___________ 。
(4)滤液Ⅲ中溶质的主要成分是,加过滤后得到沉淀,再加适量稀硫酸溶解又生成,这两步操作的目的是___________ 。
(5)用惰性电极电解溶液时,在___________ 极得到单质镍,另一电极的电极反应式为:___________ 。
(2)向滤液Ⅰ中加入FeS是为了生成难溶于水的硫化物沉淀而除去、等杂质,则除去的离子方程式为,该反应的化学平衡常数为
(3)向滤液Ⅱ中加入H2O2的目的是
(4)滤液Ⅲ中溶质的主要成分是,加过滤后得到沉淀,再加适量稀硫酸溶解又生成,这两步操作的目的是
(5)用惰性电极电解溶液时,在
您最近一年使用:0次
名校
解题方法
9 . 电路板广泛用于计算机、手机等电子产品中。某兴趣小组拟制作带有“化学”标志的电路板并对废液进行回收利用。
I.制作电路板
小组同学取一小块覆铜板,用油性笔在铜板上写出“化学”标志,然后浸入溶液中,一段时间后,取出覆铜板并用水洗净,获得带有图案的印刷电路板和废液(如图所示)。(1)在覆铜板上制作出“化学”图案过程中发生反应的离子方程式为_______ 。
(2)取少量废液于试管中,_______ (填操作和现象),则废液中含有。
Ⅱ.回收废液
该组同学查阅资料:一种从腐蚀废液回收金属铜并获得氯化铁晶体的工艺流程如图。取实验I后的废液完成上述流程。
(3)废液100mL,加入铁粉,其固体质量的变化如图所示,假设溶液体积不变,①写出发生反应的离子方程式,_______ 。
②原混合溶液中的物质的量_______ 。
③点溶液中的物质的量浓度_______ 。
(4)操作方法中是过滤的是_______ (填序号)。
(5)若取2mL溶液⑤加入试管中,然后滴加氢氧化钠溶液,产生白色沉淀,_______ (补全实验现象),此过程涉及氧化还原反应的化学方程式是:_______ 。
(6)试剂⑥是时,发生反应的化学方程式是_______ 。
I.制作电路板
小组同学取一小块覆铜板,用油性笔在铜板上写出“化学”标志,然后浸入溶液中,一段时间后,取出覆铜板并用水洗净,获得带有图案的印刷电路板和废液(如图所示)。(1)在覆铜板上制作出“化学”图案过程中发生反应的离子方程式为
(2)取少量废液于试管中,
Ⅱ.回收废液
该组同学查阅资料:一种从腐蚀废液回收金属铜并获得氯化铁晶体的工艺流程如图。取实验I后的废液完成上述流程。
(3)废液100mL,加入铁粉,其固体质量的变化如图所示,假设溶液体积不变,①写出发生反应的离子方程式,
②原混合溶液中的物质的量
③点溶液中的物质的量浓度
(4)操作方法中是过滤的是
(5)若取2mL溶液⑤加入试管中,然后滴加氢氧化钠溶液,产生白色沉淀,
(6)试剂⑥是时,发生反应的化学方程式是
您最近一年使用:0次
解题方法
10 . 已知溶液A中含有Cu2+、Fe2+、Fe3+三种金属离子,且三种离子沉淀时的pH如下表:
(1)试剂X是___________ 。
(2)加入CuO作用是调节pH,则pH的范围:___________ 。还可以用哪些物质来代替CuO?___________ 。
(3)操作1为___________ ,操作2为___________ 。
金属离子 | Fe3+ | Fe2+ | Cu2+ | |
pH | 开始沉淀 | 1.9 | 7.0 | 4.7 |
完全沉淀 | 3.2 | 9.0 | 6.7 |
(2)加入CuO作用是调节pH,则pH的范围:
(3)操作1为
您最近一年使用:0次