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题型:解答题-工业流程题 难度:0.65 引用次数:276 题号:11456232
以硫酸渣(含Fe2O3、SiO2等)为原料制备铁黄(FeOOH)的一种工艺流程如下:

(1)“酸溶”中加快溶解的方法为_____________(写出两种)。
(2)“还原”过程中的离子方程式为__________________________
(3)滤渣中主要成分的化学式____________________
(4)①“沉铁”过程中生成Fe(OH)2的化学方程式为___________________________________
②若用CaCO3“沉铁”,则生成FeCO3沉淀。当反应完成时,溶液中=_____________。[已知Ksp(CaCO3)=2.8×109Ksp(FeCO3)=2×1011]
(5)“氧化”时,用NaNO2浓溶液代替空气氧化Fe(OH)2浆液,能缩短氧化时间,但缺点是______________________________________
(6)焦炭还原硫酸渣炼铁能充分利用铁资源,在1225℃、时,焙烧时间与金属产率的关系如图,时间超过15min金属产率下降的原因是__________________________

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解答题-工业流程题 | 适中 (0.65)
【推荐1】某课外小组研究铝土矿中Al2O3的含量。查阅资料得知,铝土矿的主要成分是Al2O3,杂质是Fe2O3、SiO2等。从铝土矿中提取Al2O3的过程如下:
   
(1)固体B的主要用途有(写出1条即可)__________________________
(2)第①步,向铝土矿中加入足量烧碱溶液后,发生反应的离子方程式是: ________________________________________________________________________________________________________________________   
(3)第③步中,生成氢氧化铝的离子方程式是____________________________________________________________
(4)工业上制取AlCl3用Al2O3与C、Cl2在高温条件下反应,每消耗0.5 mol碳单质,转移1 mol电子,反应的化学方程式是___________________________________________________
(5)将实验过程中所得固体精确称量。课外小组发现所得氢氧化铝固体的质量与原铝土矿质量相等,则该铝土矿中Al2O3的质量分数是________。(保留一位小数)
2016-12-09更新 | 454次组卷
解答题-工业流程题 | 适中 (0.65)
【推荐2】磷矿石的主要成分是Ca5F(PO4)3,含少量MgO、Fe2O3等杂质。工业上以磷矿石为原料制备H3PO4的常用流程如图:

已知:Ca5F(PO4)3+7H3PO4→5Ca(H2PO4)2+HF
(1)采用这种方法在实验室溶解磷矿石___(填“能”或“不能”)用玻璃仪器,原因是___
(2)操作Ⅰ的名称是___,所得磷酸粗品中除含H+外,还含有的阳离子是__
(3)在实验室中实现操作Ⅱ和Ⅲ所需要的玻璃仪器有___,推测该萃取剂一定具有的性质是__
a.该萃取剂与水互不相溶
b.相同条件下,该萃取剂的密度比水小
c.磷酸在该萃取剂中的溶解度很小
d.某些磷酸二氢盐在该萃取剂中的溶解度很小
(4)采用该流程除制取磷酸外,还有__等副产品产生,请说出其中一种副产品的用___
(5)与直接用硫酸溶解磷矿石的工艺相比,该工艺的优点是___
(6)测定磷酸产品的浓度可采用滴定法。准确量取10.00mL磷酸产品(密度为1.526g/cm3)溶于水配成1L溶液;取溶解后的溶液20.00mL,以甲基橙作指示剂,用0.103mol/L标准NaOH溶液滴定至终点(生成NaH2PO4),消耗NaOH溶液21.35mL。该磷酸产品的质量分数为___
2020-03-31更新 | 104次组卷
解答题-实验探究题 | 适中 (0.65)
【推荐3】晶体硅是一种重要的非金属材料,制备纯硅的主要步骤如下:
①高温下用炭还原二氧化硅制得粗硅;
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2
③SiHCl3与过量H2在1000~1100 ℃反应制得纯硅。
已知:SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自燃。
请回答下列问题:
(1)第①步制备粗硅的化学方程式为_____________________
(2)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去):

①装置B中的试剂是________。装置C中的烧瓶需要加热,其目的是_________________
②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是________________,装置D中发生反应的化学方程式为__________________________
③为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度以及__________________________
④SiHCl3的电子式为________,SiHCl3与H2O反应的化学方程式为:_________________
2017-02-17更新 | 367次组卷
共计 平均难度:一般