4 . 电子工业常用FeCl₃溶液腐蚀印刷电路板上不需要的铜箔，最后得到含FeCl₃、FeCl₂杂质的CuCl₂溶液。某化学兴趣小组设计下列方案，从该废液中 除去FeCl₃、FeCl₂杂质，制取纯净的CuCl_2。
   
请回答下列问题：
(1)在①步操作中使用了氧化剂，下列氧化剂中一定不能使用的是_______。
A.Cl₂　　B.NaClO　　C.H₂O₂D.KMnO₄　　E.O₃
(2)②步操作中的“沉淀剂”可以是下列中的_______。
A.NaOH　　B.NH₃·H₂O 　　C.CuO　　D.Cu₂(OH)₂CO₃　　E.Fe₂O₃
用一种你选择的沉淀剂，分步写出除去杂质的离子方程式：_______。
(3)最后将滤液在HCl气流中蒸干，其目的是_______，如果将滤液直接加热蒸干，最后得到的固体可能是_______。
(4)设常温下各沉淀的溶度积近似为：K_sp[Cu(OH)₂]=10^-20、K_sp[Fe(OH)₃]=10^-38、K_sp[Fe(OH)₂]=10^-16；通常，人们把浓度小于10^-5mol/L的离子视为“不存在”。根据所给条件，完成下列问题：
①如果该废液中CuCl₂的浓度为1 mol/L，在加沉淀剂时应调节溶液的pH值范围为：_______。
②如果对废液不先用氧化剂，而是直接加入沉淀剂，带来的后果是：_______。

8 . 氯化钙在生活中常用作干燥剂、融雪剂，在工业上可用于制造防冻液等。某工厂以石灰石为原料生产氯化钙晶体的流程如下。原料石灰石中含有杂质主要是和。(每一步反应都恰好完全进行)

(1)石灰石粉溶解时，发生反应的化学方程式为___________。
(2)加入除去的杂质离子是___________(填离子符号)；
(3)操作Ⅰ的名称为___________，需用到的实验仪器有：铁架台(带铁圈)、漏斗、烧杯、___________。
(4)进行操作Ⅱ时，当出现___________时停止加热。
(5)固体a的成分一定含有___________。