4 . 氧化钇()广泛应用于微波、军工、光学玻璃、陶瓷、激光、超导等许多尖端行业。利用废荧光粉(主要成分为ZnO、，还含有一定量的、、MgO)等)为原料生产的工艺流程如图所示：

已知：①金属离子浓度 mol⋅L时，认为已沉淀完全。
②常温下，相关金属离子开始沉淀和沉淀完全时的pH如图所示：

请回答下列问题：
(1)“酸浸”时需适当提高浸取液的温度，其目的是_______；
采用离子浓度传感器测得相同时间内的浸取率与浸取溶液温度的关系如图所示，℃后，的浸取率随温度升高而减小的原因是_______。

(2)滤渣b的主要成分是_______(填化学式)。
(3)“沉钇”后的滤液中浓度最大的金属离子是_______(填离子符号)；若常温下测得恰好沉淀完全时滤液中mol⋅L，则_______mol⋅L(保留两位有效数字)。
(4)“沉钇”后所得晶体为，其中C元素的化合价为_______。
(5)“焙烧”时发生反应的化学方程式为_______。

5 . 下列有关实验仪器与实验操作的叙述正确的是

A．蒸馏完毕后，应先停止通冷凝水，再停止加热

B．滴定接近终点时，滴定管尖嘴不能触碰锥形瓶内壁

C．粗盐提纯过程中，需要用到的实验仪器有坩埚、漏斗、玻璃棒等

D．用NaOH固体配制一定物质的量浓度溶液时，溶解后冷却至室温再转移到容量瓶中

6 . 纳米级硒化锰(MnSe)是一种半导体材料，难溶于水。以锰渣(主要成分是，含少量、CuO)为原料制备硒化锰的流程如图所示：

回答下列问题：
(1)为了提高“酸溶”速率，宜采取的措施有___________(填两条)。
(2)滤渣1的主要成分之一是单质，“还原”得到的滤液中溶质为和。写出“还原”反应的离子方程式：___________。
(3)“氧化”中还原剂、氧化剂的物质的量之比为___________。
(4)滤渣2的主要成分是___________(填化学式)。常温下，。离子浓度时认为该离子已沉淀完全。“除铁”调节pH的最小值为___________。
(5)“合成”中分离MnSe的操作名称是___________。

7 . 是一种用途广泛的磁性材料，以为原料制备并获得副产物水合物的工艺流程如图所示。

下列叙述错误的是

A．反应釜1需在隔绝空气条件下进行

B．适当升温和搅拌，可提高反应釜中的反应速率

C．进入反应釜1和2的的物质的量之比宜为2∶1

D．实验室进行“滤液水合物”的操作为加热浓缩、冷却结晶、过滤等

8 . 下列有关化学实验安全以及基本操作的叙述正确的是

A．皮肤溅上碱液，立即涂擦稀盐酸

B．在烧杯中做钠与水反应的实验时，钠块要切成绿豆大小

C．蒸馏近沸腾时，忘加沸石，应立即打开瓶盖追加

D．常压蒸馏时，加入液体的体积不超过蒸馏烧瓶容积的三分之一

9 . 氯化亚铜(CuCl)是一种易水解的白色固体。以低品位铜矿砂(主要成分CuS)为原料制备CuCl的工艺流程如图所示。

回答问题：
(1)“酸溶1”时，CuS作_______(填“氧化剂”或“还原剂”)。
(2)“除锰”时，Cu²⁺转化为Cu(NH₃)₄CO₃，Mn²⁺转化为MnCO₃沉淀。沉锰的反应化学方程式为_______。将生成的MnCO₃分离出来的实验操作为_______。
(3)“酸溶2”投料后，以一定的速率搅拌反应，可提高铜浸出率的措施有_______(只答一种方法)。
(4)合成步骤加入Na₂SO₃的速率不宜过快，否则会产生_______气体。
(5)“洗涤”应先用稀盐酸洗涤，其目的是_______。