2 . 被誉为电子陶瓷工业的支柱。工业中以毒重石(主要成分为，含少量、和)为原料制备的流程如下：

已知：25℃时，，，；，。
回答下列问题：
(1)基态Fe原子核外电子的空间运动状态有_____种。
(2)浸渣的主要成分为_____和_____(填化学式)，“浸出”步骤中与溶液反应的原理为_____(用离子方程式表示)。
(3)若浸出液中，，“除钙”步骤中，当沉钙率为90％时，钡损率为_____。
(4)溶液显_____(填“酸”“碱”或“中”)性；“沉钛”步骤所得沉淀为，该步骤生成的能循环利用的物质是_____(填化学式)。
(5)“热解”步骤的化学方程式为_____。
(6)在室温下为立方晶胞，其结构如图所示，已知Ba与O的最小间距大于Ti与O的最小间距。

①晶胞中A点微粒的坐标为，则B点微粒的坐标为_____。
②Ti在晶胞中的位置为_____；晶胞中一个Ba周围与其最近的O的个数为_____。

7 . 二氧化铈是一种用途广泛的稀土化合物。以氟碳铈矿(主要含)为原料制备的一种工艺流程如图所示：

已知：①能与结合成，也能与结合成；
②在硫酸体系中能被萃取剂萃取，而不能。
回答下列问题：
(1)氧化焙烧中氧化的目的是_______。
(2)“萃取”时存在反应：，如图中D是分配比，表示分别在有机层中与水层中存在形式的物质的量浓度之比保持其它条件不变，若在起始料液中加入不同量的以改变水层中的，请解释D随起始料液中变化的原因：_______。

(3)“反萃取”中，在稀硫酸和的作用下转化为，反应的离子方程式为：_______。
(4)向水层中加入溶液来调节溶液的，应大于_______时，完全生成沉淀。(已知)
(5)“氧化”步骤中氧化剂与还原剂物质的量之比为_______。
(6)是汽车尾气净化催化剂的关键成分，它能在还原气氛中供氧，在氧化气氛中耗氧，在尾气消除过程中发生着的循环，请写出消除尾气(气体产物是空气的某一成分)的化学方程式_______。
(7)氧化铈，常用作玻璃工业添加剂，在其立方晶胞中掺杂，占据原来的位置，可以得到更稳定的结构，如图所示，晶胞中与最近的核间距为。(已知：的空缺率)

①已知点原子的分数坐标为，则点原子的分数坐标为_______。
②晶胞中与最近的的个数为_______。
③晶体的密度为_______(只需列出表达式)。
④若掺杂后得到的晶体，则此晶体中的空缺率为_______。

9 . 利用席夫碱L（结构简式为，相对分子质量为416）制备金属缓蚀剂并测定其组成。

Ⅰ．制备（实验装置如图，夹持装置省略）。
向三颈烧瓶中加入席夫碱L和（沸点为39.8℃），将其置于35℃恒温水浴，按下图连接好仪器。滴加溶液，回流1h。置于冰水浴中冷却，离心分离、洗涤、干燥，得到固体。

(1)仪器X的名称为______。
(2)控制水浴温度为35℃的原因是______。
(3)洗涤所用最佳试剂为______（填标号）。

A．去离子水

B．无水乙醇

C．NaOH溶液

D．溶液

Ⅱ．测定组成
称取0.3g于坩埚中焙烧。将焙烧产物转入烧杯中，再加入少量稀充分溶解，滴加少量NaOH溶液调节pH至3~4。将上述溶液转入锥形瓶中，加入过量KI溶液，用标准溶液滴定至浅黄色，加入淀粉溶液，继续滴定至浅蓝色，接近滴定终点时加入KSCN溶液，继续滴定至终点，消耗标准溶液20.40mL。
已知：i．；
ii．25℃时，，；能吸附。
(4)与释放出的反应的离子方程式为______；滴定终点的现象是______。
(5)调节溶液pH至3~4的原因是______。
(6)加入KSCN溶液的目的是______。
(7)中______，其结构简式为______。

10 . 利用氟磷灰石［主要成分为杂质为等］为原料生产可应用于巨型激光器“神光二号”的磷酸二氢钾（），工艺流程如下。

已知：25℃时，，，，，。
(1)“酸浸Ⅰ”中生成，其化学方程式为______。
(2)“酸浸Ⅱ”中，滤渣的主要成分为______。
(3)“脱氟”中试剂X为______（填“”或“”）；当时，溶液中试剂X电离出的剩余金属阳离子的浓度为______。
(4)“中和法”为获得较高纯度的，控制pH范围为______；在此pH范围内纯度的溶液中各微粒浓度大小关系为______。
已知：溶液中、、、的分布分数随pH变化曲线如图。［如分布分数：］

(5)“电解法”工作原理如图。

①阴极的电极反应式为______。
②分析产品室可得到的原因______。
③相较于“中和法”，“电解法”的优点有______（写出2条即可）。